Pat
J-GLOBAL ID：202103012508607996
プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
Inventor：
,
,
,
Applicant, Patent owner：
,
Agent (9)：
青木 宏義
, 天田 昌行
, 岡田 喜雅
, 三浦 邦陽
, 青木 宏義
, 天田 昌行
, 岡田 喜雅
, 三浦 邦陽
, 三浦 邦夫
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2017056383
Publication number (International publication number)：2018160353
Patent number：6974678
Application date： Mar. 22, 2017
Publication date： Oct. 11, 2018
Claim (excerpt)：
【請求項1】誘電体を含んで軸方向に延びるとともに、内部に放電空間を構成する筒状管壁を有するプラズマ処理容器と、
前記筒状管壁に軸方向に沿って帯状に形成されるとともに、前記放電空間を介して対向するように配置された一対の帯状電極と、
を有し、
前記放電空間に被処理物を導入した状態で前記一対の帯状電極に電圧を印加してプラズマを発生することにより、前記被処理物をプラズマ処理し、
前記一対の帯状電極の少なくとも一方は、前記放電空間に露出しないように、前記筒状管壁に埋設されている、
ことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (1)：
FI (1)：
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (6)
-
プラズマ処理装置
Gazette classification：公開公報
Application number：特願2008-197515
Applicant：学校法人中村産業学園
-
特許第6006393号
-
放電ランプ
Gazette classification：公開公報
Application number：特願2010-179652
Applicant：株式会社オーク製作所
Show all
Cited by examiner (6)
-
プラズマ処理装置
Gazette classification：公開公報
Application number：特願2008-197515
Applicant：学校法人中村産業学園
-
特許第6006393号
-
放電ランプ
Gazette classification：公開公報
Application number：特願2010-179652
Applicant：株式会社オーク製作所
Show all
Return to Previous Page
