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J-GLOBAL ID：202103020617831327

ガス濃度検出ユニット及びガス濃度測定方法

Inventor： 三木 雄輔 ,  広瀬 泰夫 ,  遠藤 仁晃 ,  戸田 敬 ,  大平 慎一
Applicant, Patent owner： 大陽日酸株式会社 ,  国立大学法人 熊本大学
Agent (2)： 木戸 良彦 ,  木戸 一彦
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2016149304
Publication number (International publication number)：2018017650
Patent number：6836028
Application date： Jul. 29, 2016
Publication date： Feb. 01, 2018
Claim (excerpt)：

【請求項1】 測定対象ガスに含まれる不純物成分の濃度を連続的に検出するためのガス濃度検出ユニットにおいて、 特定波長の測定光を照射する光源と、 光透過性を有するフィルタの光源側の面を覆う不純物成分検知体と、 該不純物成分検知体を透過した前記測定光の強度を検出する測定用受光部と、 前記不純物成分検知体に前記測定対象ガスを供給する測定対象ガス供給経路と、 前記光源から前記不純物成分検知体に向かう測定光が通過する測定用光路と、 前記光源から前記不純物成分検知体に向かう測定光の一部を参照光として分割するビームスプリッタと、 該ビームスプリッタで分割された前記参照光の強度を検出する参照用受光部とを備え、 前記測定用光路の一部と前記測定対象ガス供給経路の一部とが共有されている ことを特徴とするガス濃度検出ユニット。

IPC (1)：

G01N 21/59 ( 200 6.01)

FI (1)：

G01N 21/59 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• ガス検知素子及びガス測定装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-267036   Applicant：三菱重工業株式会社
• ガス吸光度測定装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2013-181842   Applicant：株式会社島津製作所
• 半導体レーザーを用いた水分分析装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-260859   Applicant：日本酸素株式会社, 竹内延夫