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J-GLOBAL ID:202203007696017290

X線を用いた物質評価方法及び物質評価装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2020122717
Publication number (International publication number):2022019115
Application date: Jul. 17, 2020
Publication date: Jan. 27, 2022
Summary:
【課題】X線の物質を透過する際の吸収を非常に短い時分割で計測し物質を評価する物質評価方法及びこれを用いた物質評価装置の提供。 【解決手段】物質評価方法は、X線の照射箇所での透過強度の時間変動解析において、原子又は分子の熱揺らぎに対応する動態を時分割評価することを特徴とする。物質評価装置は、X線の照射箇所での透過強度の時間変動解析において、原子又は分子の熱揺らぎに対応する動態を時分割評価することを特徴とする。 【選択図】 図1
Claim (excerpt):
X線の物質を透過する際の吸収を計測して該物質を評価する物質評価方法であって、 X線の照射箇所での透過強度の時間変動解析において、原子又は分子の熱揺らぎに対応する動態を時分割評価することを特徴とするX線を用いた物質評価方法。
IPC (1):
G01N 23/083
FI (1):
G01N23/083
F-Term (6):
2G001AA01 ,  2G001BA11 ,  2G001CA01 ,  2G001DA09 ,  2G001EA03 ,  2G001HA01
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
  • 運動計測装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2016-226495   Applicant:国立大学法人東京大学
Cited by examiner (3)
  • 運動計測装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2016-226495   Applicant:国立大学法人東京大学
  • 粒子線を用いた測定方法および測定システム
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2017-180055   Applicant:株式会社日立製作所, トヨタ自動車株式会社, 大学共同利用機関法人高エネルギー加速器研究機構
  • 粒子軌跡検出方法及び装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2013-240721   Applicant:株式会社IHI
Article cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
  • X線を用いた1分子計測法
  • 単色X線を用いた1分子動態追跡の実現とその波及性
  • 7.X線1分子追跡法の技術開発とその広域利用
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