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J-GLOBAL ID：202203013195156568

スパッタ装置用カソードユニット

Inventor： 米澤 健 ,  ▲高▼橋 希世美 ,  太田 裕己 ,  呉 準席 ,  伊藤 昌文 ,  古閑 一憲 ,  白谷 正治 ,  中谷 達行
Applicant, Patent owner： ケニックス株式会社 ,  学校法人 名城大学 ,  国立大学法人九州大学 ,  学校法人加計学園
Agent (1)： 特許業務法人前田特許事務所
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2018027964
Publication number (International publication number)：2019143193
Patent number：7020646
Application date： Feb. 20, 2018
Publication date： Aug. 29, 2019
Claim (excerpt)：

【請求項1】 ターゲットが保持されるバッキングプレートが設けられたカソード本体と、 前記カソード本体を収容し、バッキングプレートを露出するカバー開口部を端面に有し、前記カソード本体と絶縁されたカバーと、 前記カバーの端面を覆い、前記カバー開口部と重なる位置にオリフィス開口部を有するオリフィスと、 前記カバー開口部から露出した空間にガスを供給するガス供給路とを備え、前記カバーの端面には、ガス供給開口部が設けられており、 下記の式1の条件を満たす、スパッタ装置用カソードユニット。0.4≦V/S≦10 ・・・ (式1) 但し、Sはターゲットの有効表面積であり、Vは前記カバー開口部から露出した空間の体積と、前記カバーと前記オリフィスとの間の空間の体積との和である。

IPC (1)：

C23C 14/34 ( 200 6.01)

FI (2)：

C23C 14/34 C ,  C23C 14/34 M

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 成膜装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-244978   Applicant：キヤノン株式会社
• スパッタ源終端検出機構およびスパッタ装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2011-116907   Applicant：日本放送協会
• スパッタリング式成膜装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-029771   Applicant：三菱電機株式会社