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J-GLOBAL ID：202203014657402949

X線回折による高分子測定方法

Inventor： 稲益 礼奈 ,  山口 央基 ,  佐々木 裕次 ,  三尾 和弘
Applicant, Patent owner： ダイキン工業株式会社 ,  国立研究開発法人産業技術総合研究所
Agent (4)： 川本 真由美 ,  新免 勝利 ,  式見 真行 ,  畠中 省伍
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2022077319
Publication number (International publication number)：2022174025
Application date： May. 10, 2022
Publication date： Nov. 22, 2022
Summary：

【課題】表面(界面)における高分子の運動を測定でき、X線の全反射状態で高分子を観測することによって、標識なしに観測対象の表面近傍の情報が得られる、分析装置および分析方法を提供する。 【解決手段】高分子のX線に対する全反射角度前後でX線を高分子に照射し、時分割回折・散乱像を取得できる分析装置:ならびにX線の全反射角度でX線を高分子試料に照射する工程、時分割回折・散乱像を取得し、高分子表面の運動性を評価する工程を有する、高分子の分析方法。 【選択図】図3

Claim (excerpt)：

臨界角前後の入射角でX線を高分子に照射し、時分割回折・散乱像を取得できる分析装置。

IPC (1)：

G01N 23/20

FI (1)：

G01N23/20

F-Term (7)：

2G001AA01 ,  2G001BA14 ,  2G001BA18 ,  2G001CA01 ,  2G001DA09 ,  2G001KA20 ,  2G001LA05

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 運動計測装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2016-226495   Applicant：国立大学法人東京大学

Cited by examiner (4)

• X線結晶分析方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2012-195465   Applicant：富士通株式会社
• 運動計測装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2016-226495   Applicant：国立大学法人東京大学
• X線回折測定のための試料加熱・冷却装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-189637   Applicant：理学電機株式会社
• ラウエ斑点追跡法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-136430   Applicant：株式会社日立製作所

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• X線1分子追跡法の技術開発とその広域利用