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J-GLOBAL ID:202303011677659030
試料固定装置及び試料固定方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (2):
池田 憲保
, 平瀬 実
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2019185121
Publication number (International publication number):2021060302
Patent number:7382028
Application date: Oct. 08, 2019
Publication date: Apr. 15, 2021
Claim (excerpt):
【請求項1】 試料が保持材を介して配置された試料台を含む試料体を保持する保持台部と、 前記試料を前記保持材に押圧するための部材であって、押圧方向と逆の方向に配置されることによって前記保持台部と互いに対向する押圧部材と、 前記押圧方向と交差する第1軸方向に間隔を空けて対置される部材であって、前記保持台部及び前記押圧部材のそれぞれの第1外縁部及び第2外縁部が収容される一対の収容部を含み、当該一対の収容部の前記第1軸方向の間隔を変えるように移動する一対の挟持部材とを備え、 前記一対の収容部は、収容された前記第2外縁部と前記押圧方向に対して傾斜した傾斜面で係わり合うことによって、互いに近接するに従って前記第2外縁部を押圧して前記試料を前記押圧方向に次第に移動させる ことを特徴とする試料固定装置。
IPC (1):
FI (2):
G01N 1/28 W
, G01N 1/28 F
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
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二次イオン質量分析の固形試料保持方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2008-221604
Applicant:シャープ株式会社
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赤外吸収スペクトル分析用サンプル並びにその作成方法及び作成装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-188456
Applicant:キヤノン株式会社
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試料ホルダー
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2008-042495
Applicant:富士電機デバイステクノロジー株式会社
Cited by examiner (3)
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二次イオン質量分析の固形試料保持方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2008-221604
Applicant:シャープ株式会社
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赤外吸収スペクトル分析用サンプル並びにその作成方法及び作成装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-188456
Applicant:キヤノン株式会社
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試料ホルダー
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2008-042495
Applicant:富士電機デバイステクノロジー株式会社
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