波長掃引型光コヒーレンストモグラフィー装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：坂本寛
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2019139400
Publication number (International publication number)：2021022684
Patent number：7265258
Application date： Jul. 30, 2019
Publication date： Feb. 18, 2021
Claim (excerpt)：

【請求項1】波長可変レーザ光源を備える波長掃引型光コヒーレンストモグラフィー装置であって、前記波長可変レーザ光源は、電流が注入されることで、レーザ発振せずに増幅自然発光により生じた種光を出射する利得チップと、前記種光から選択された波長の光をレーザ発振させるよう構成され、レーザ発振の波長を制御可能である外部共振器と、を備え、前記利得チップは、1μmから1.15μmの範囲内に、第1励起準位間発光の中心波長が存在する量子ドットを有し、前記種光は、基底準位間発光よりも大きな光強度を有する前記第1励起準位間発光を少なくとも含み、前記外部共振器は、前記第1励起準位間発光の中心波長を含む範囲である波長可変幅内において、レーザ発振の波長を制御するよう構成され、前記波長可変幅は、前記外部共振器を用いた前記レーザ発振においてレーザ発振した波長範囲であり、前記外部共振器を用いた前記レーザ発振において、前記基底準位間発光はレーザ発振に寄与せず、前記第1励起準位間発光はレーザ発振に寄与しており、前記外部共振器を用いた前記レーザ発振の前記波長範囲は、前記基底準位間発光の前記中心波長を含まない範囲であるとともに、前記第1励起準位間発光の中心波長を含む範囲である波長掃引型光コヒーレンストモグラフィー装置。

IPC (6)：

H01S 5/34 ( 200 6.01) , H01S 5/06 ( 200 6.01) , H01S 5/14 ( 200 6.01) , G01N 21/17 ( 200 6.01) , A61B 3/10 ( 200 6.01) , A61B 10/00 ( 200 6.01)

FI (6)：

H01S 5/34 , H01S 5/06 , H01S 5/14 , G01N 21/17 625 , A61B 3/10 100 , A61B 10/00 E

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

量子ドットレーザ
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2002-558378 Applicant：サイエンスアンドテクノロジーコーポレーション@ユーエヌエム
光半導体素子、該光半導体素子を用いた波長可変光源および光断層画像取得装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2007-212787 Applicant：富士フイルム株式会社
半導体発光素子、その製造方法およびそれを用いた光断層画像化装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2008-009211 Applicant：富士フイルム株式会社

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