特許
J-GLOBAL ID:200903033967354105
半導体レーザジャイロ
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
鎌田 耕一
, 黒田 茂
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-060431
公開番号(公開出願番号):特開2006-242817
出願日: 2005年03月04日
公開日(公表日): 2006年09月14日
要約:
【課題】 新規な構造の半導体レーザを用いることによって、精度よく簡単に回転を検出できる半導体レーザジャイロを提供する。 【解決手段】 第1および第2のレーザ光を出射する半導体レーザ10と、回転検出用の光検出器72と、波長モニタ用のフォトダイオード77と、ファブリペローエタロン76と、波長制御手段とを備える。半導体レーザ10は、対向する第1および第2の端面を備える活性層を含む。第1のレーザ光は、上記活性層内において菱形の経路上を周回するレーザ光(L1)の一部が第1の端面から出射されたレーザ光であり、上記第2のレーザ光は、上記経路上をレーザ光(L1)とは逆の方向に周回するレーザ光(L2)の一部が第1の端面から出射されたレーザ光である。第2の端面から出射されるレーザ光を、ファブリペローエタロン76を介してフォトダイオード77でモニタし、その出力に基づいて波長制御手段でレーザ光の波長を安定化する。【選択図】 図7
請求項(抜粋):
基板と、前記基板上に配置され第1および第2のレーザ光を出射する半導体レーザと、回転検出用の第1の光検出器と、波長モニタ用の第2の光検出器と、ファブリペローエタロンと、前記第1および第2のレーザ光の波長を制御する波長制御手段とを備える半導体レーザジャイロであって、
前記第1の光検出器は、前記第1および第2のレーザ光によって干渉縞が形成される位置に配置されており、
前記半導体レーザは、対向する第1および第2の端面を備える活性層を含み、
前記第1のレーザ光は、前記活性層内において菱形の経路上を周回するレーザ光(L1)の一部が前記第1の端面から出射されたレーザ光であり、
前記第2のレーザ光は、前記経路上を前記レーザ光(L1)とは逆の方向に周回するレーザ光(L2)の一部が前記第1の端面から出射されたレーザ光であり、
前記第2の端面から出射される、前記レーザ光(L1)および前記レーザ光(L2)から選ばれる少なくとも1つのレーザ光を、前記ファブリペローエタロンを介して前記第2の光検出器でモニタし、前記第2の光検出器の出力に基づいて前記波長制御手段で前記第1および第2のレーザ光の波長を安定化する半導体レーザジャイロ。
IPC (4件):
G01C 19/66
, H01L 31/12
, H01S 5/068
, H01L 31/02
FI (4件):
G01C19/66
, H01L31/12 H
, H01S5/0687
, H01L31/02 A
Fターム (60件):
2F105AA02
, 2F105AA03
, 2F105AA05
, 2F105AA08
, 2F105BB04
, 2F105BB13
, 2F105DD07
, 2F105DD11
, 2F105DE01
, 2F105DE21
, 2F105DF10
, 5F088BA20
, 5F088BB10
, 5F088EA01
, 5F088EA09
, 5F088EA11
, 5F088JA11
, 5F089BA01
, 5F089BB04
, 5F089BB17
, 5F089BC08
, 5F089BC15
, 5F089BC25
, 5F089BC30
, 5F089CA15
, 5F089CA21
, 5F089GA01
, 5F089GA03
, 5F089GA07
, 5F173AB49
, 5F173AF43
, 5F173AF58
, 5F173AG14
, 5F173AH02
, 5F173AJ05
, 5F173AJ13
, 5F173AJ45
, 5F173AK21
, 5F173AP33
, 5F173AP45
, 5F173AP47
, 5F173AP82
, 5F173AP92
, 5F173AR03
, 5F173AR07
, 5F173MA10
, 5F173MC15
, 5F173MF04
, 5F173MF12
, 5F173MF17
, 5F173MF29
, 5F173SA02
, 5F173SA27
, 5F173SC10
, 5F173SF03
, 5F173SF09
, 5F173SF19
, 5F173SF33
, 5F173SF43
, 5F173SF46
引用特許:
出願人引用 (4件)
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リングレーザジャイロ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-164666
出願人:日本航空電子工業株式会社
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光ジャイロ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-033277
出願人:キヤノン株式会社
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特開平4-174317号公報
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光ジャイロ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-296581
出願人:キヤノン株式会社
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審査官引用 (5件)
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特開昭62-007177
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光ジャイロ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-033277
出願人:キヤノン株式会社
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リングレーザ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-220397
出願人:本田技研工業株式会社
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特開昭63-257285
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半導体装置およびその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-067672
出願人:株式会社エイ・ティ・アール環境適応通信研究所
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