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J-GLOBAL ID：201102244890510848   整理番号：11A1577261

Fabに基づく内在性修飾のライブ標識を用いて単一細胞における後成的ヒストン修飾を追跡すること

Tracking epigenetic histone modifications in single cells using Fab-based live endogenous modification labeling

著者 (12件)： HAYASHI-TAKANAKA Yoko (Osaka Univ., Suita) ,  YAMAGATA Kazuo (RIKEN, Kobe) ,  YAMAGATA Kazuo (Osaka Univ., Suita) ,  WAKAYAMA Teruhiko (RIKEN, Kobe) ,  STASEVICH Timothy J. (Osaka Univ., Suita) ,  KAINUMA Takashi (Waseda Univ., Tokyo) ,  TSURIMOTO Toshiki (Kyushu Univ., Fukuoka) ,  TACHIBANA Makoto (Kyoto Univ., Kyoto) ,  SHINKAI Yoichi (Kyoto Univ., Kyoto) ,  KURUMIZAKA Hitoshi (Waseda Univ., Tokyo) ,  NOZAKI Naohito (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN) ,  KIMURA Hiroshi (Osaka Univ., Suita)
資料名： Nucleic Acids Research  (Nucleic Acids Research)
巻： 39  号： 15  ページ： 6475-6488  発行年： 2011年 
JST資料番号： D0242C  ISSN： 0305-1048  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 蛍光標識特異的抗原結合断片(Fab)を用いた,細胞増殖や胚発生を乱さず生細胞で内在性ヒストンH3リシン修飾の分布と全体的レベルを監視するための一般的手法を開発した。H3K27トリメチル化特異的Fabは不活性X染色体に集中した。Fabは一過的に標的に結合するので,結合分子と遊離分子の比は標的濃度に依存した。これにより全体的な修飾レベルの変化を測定できた。高レベルのH3K27アセチル化が正常なマウスの胚発生に重要であった。

シソーラス用語： メチル化 ,  X染色体 ,  *免疫グロブリンフラグメント ,  アセチル化 ,  胚発生 ,  *化学修飾 ,  蛍光標識 ,  *可視化 ,  モノクローナル抗体 ,  細胞内分布 ,  定量的分析 ,  ヒストンメチル化 ,  *ヒストン修飾 ,  *Fab免疫グロブリン
準シソーラス用語： *Fab断片

分類 (1件)： 生物物理的研究法  (EA03020V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 修飾 ,  標識 ,  単一細胞 ,  ヒストン修飾 ,  追跡