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J-GLOBAL ID:201302297246357843   整理番号:13A0712746

チタン薄膜の中空カソードスパッタリング実験と関連現象

Hollow Cathode Sputtering Experiments for Titanium Thin Films and Related Phenomena
クリップ
著者 (17件):
資料名:
巻: PST-13  号: 1-9  ページ: 27-32  発行年: 2013年03月15日 
JST資料番号: Z0951A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 文献レビュー  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
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Innsbruck大学で行われた中空カソード(HC)研究を概観した。本研究は,1)チタンおよび他の金属に対する安価なスパッタリング源としてのHCの基本的性質,2)ポリスチレンと組み合わせたチタンに対するスパッタリング源としてのHCの基本的性質,および3)発光現象のような関連現象に対して行われた。動作ガスとして主にアルゴンを用いた。研究1)の一部分は電子のペンデュラム効果を更に高める付加的なキャビティをもつHCで行った。アルゴン正イオン生成とスパッタリング速度は非常に高まった。研究2)の目的は非常に簡単なHC装置で二酸化チタンが混ざったポリスチレン膜を生成することである。モノマー蒸気を約0.1mbarの動作圧力でHC内にアルゴンガスによって送り込んだ。基板にはシリコンウェハを用いた。HCの別のタイプは標準のEdiosn E27ねじ込みソケットにねじ込まれた通常のDIIヒューズのセラミックねじ込みキャップに埋め込まれたチタンの中空シリンダーから構成されている。典型的なピンク色の青みがかったアルゴングローの低電流放電と,チタンカソードの上端部に強いグローをもつ高電流HC放電モードの2つの異なる動作モードを観測した。ある条件下で,このグローはカソードとアノードリングの間で自由にフロートした。今後は,二酸化チタンの透明導電膜の合成にこの中空カソードスパッタリング源を使用することを計画している。(翻訳著者抄録)
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分類 (1件):
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酸化物薄膜 
タイトルに関連する用語 (6件):
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