特許
J-GLOBAL ID:201303053325521753

薄膜形成装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 杉本 勝徳 ,  岡田 充浩
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-271018
公開番号(公開出願番号):特開2013-122073
出願日: 2011年12月12日
公開日(公表日): 2013年06月20日
要約:
【課題】生体を侵襲せずに、エナメル質などの硬組織にカルシウムとリンを含む薄膜を形成する薄膜形成装置を提供する。薄膜に含まれるカルシウムやリンが唾液などによりイオン化し、再石灰化することによって、エナメル質などの硬組織が非侵襲で再生する。【解決手段】薄膜形成装置1は、レーザーLを照射するレーザー照射部11と、生体親和性セラミックスからなるターゲット12と、ターゲットがレーザーの照射線上に位置し、レーザーの照射によってターゲットから飛散した原子、分子、クラスター、ドロップレットPが硬組織(歯質T)に堆積されるように、レーザー照射部11及びターゲット12を保持するターゲット保持部13などを備えている。【選択図】図1
請求項(抜粋):
レーザーを照射するレーザー照射部と、 生体親和性セラミックスからなるターゲットと、 ターゲットがレーザーの照射線上に位置し、レーザーの照射によってターゲットから飛散した原子、分子、クラスター、ドロップレットが硬組織に堆積されるように、レーザー照射部及びターゲットを保持するターゲット保持部と、 を備え、硬組織に薄膜を形成する薄膜形成装置。
IPC (3件):
C23C 14/28 ,  A61B 18/20 ,  A61C 8/00
FI (3件):
C23C14/28 ,  A61B17/36 350 ,  A61C8/00 Z
Fターム (20件):
4C026AA01 ,  4C026BB07 ,  4C026BB08 ,  4C026DD02 ,  4C026DD06 ,  4C026FF36 ,  4C026FF53 ,  4C026GG06 ,  4C026GG10 ,  4C059AA05 ,  4C059AA10 ,  4C059AA12 ,  4K029AA01 ,  4K029AA02 ,  4K029AA24 ,  4K029BA00 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029DB01 ,  4K029DB20
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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