特許
J-GLOBAL ID：200903065562172602
回転ターゲット式電子線補助照射レーザアブレーション成膜装置及び回転ターゲット式電子線照射成膜装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
北澤 一浩
, 小泉 伸
, 市川 朗子
, 立石 博臣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-351437
公開番号（公開出願番号）：特開2007-197827
出願日： 2006年12月27日
公開日（公表日）： 2007年08月09日
要約：
【課題】 良好な膜質の薄膜を形成することができる成膜装置の提供。【解決手段】 ターゲット11を保持するターゲットホルダ10と、ターゲットホルダ10を回転可能な回転機構80と、成膜用基板21を保持する基板ホルダ20と、電子線を発生する電子線発生装置30と、電子線収束装置40と、レーザ光照射装置50とを備えた回転ターゲット式成膜装置である。電子線収束装置40は、回転機構80により回転するターゲット11に対して、電子レンズを形成することにより電子線発生装置30から発生された電子線を収束させ、もってターゲット11の少なくとも一部を液体化する。レーザ光照射装置50は、液体化されたターゲット11の少なくとも一部にレーザ光を照射してアブレーションを行う。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
固体材料からなるターゲットを保持するターゲットホルダと、
該ターゲットホルダを回転可能な回転機構と、
該ターゲットホルダに対して所定の位置に設けられ、成膜用基板を保持する基板ホルダと、
電子線を発生する電子線発生装置と、
該回転機構により回転する該ターゲットに対して、電子レンズを形成することにより該電子線発生装置から発生された電子線を収束させ、もって該ターゲットの少なくとも一部を液体化する電子線収束装置と、
液体化された該ターゲットの少なくとも一部にレーザ光を照射するレーザ光照射装置と、を備えることを特徴とする回転ターゲット式電子線補助照射レーザアブレーション成膜装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (9件)：
4K029AA09
, 4K029AA24
, 4K029BA03
, 4K029CA01
, 4K029DB03
, 4K029DB07
, 4K029DB20
, 4K029DB21
, 4K029DB23
出願人引用 (2件)
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特開平4-311561号公報
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窒化物薄膜作製方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願2001-041984
出願人：浜松ホトニクス株式会社
審査官引用 (10件)
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半導体薄膜形成方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願平6-054097
出願人：シャープ株式会社
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特開平4-346656
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薄膜作製方法およびその装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平8-099835
出願人：株式会社日立製作所
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