特許
J-GLOBAL ID：201403036524712105

加熱処理装置及び加熱処理方法

発明者：
古谷 正裕

古谷 正裕 について

, 
常磐井 守泰

常磐井 守泰 について

, 
田中 伸幸

田中 伸幸 について


出願人/特許権者：
一般財団法人電力中央研究所

一般財団法人電力中央研究所 について


代理人 (2件)： 栗原 浩之 ,  村中 克年
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-097673
公開番号（公開出願番号）：特開2007-271167
特許番号：特許第5339319号
出願日： 2006年03月31日
公開日（公表日）： 2007年10月18日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 表面が金属又は合金からなる基体を加熱処理する加熱処理装置であって、 少なくとも燃料ガスが導入されて先端から燃焼ガスを噴出するガスバーナと、このガスバーナに燃料ガスを導入する燃料ガス導入手段と、前記ガスバーナから放出された燃焼炎を導入する導入口を有する燃焼室と、この燃焼室と隔離して設けられると共に前記基体を載置して加熱処理する処理室と、前記燃焼室と前記処理室とを連通する連結管からなる連通部と、前記ガスバーナから噴出された燃焼ガスを前記連通部から導入して当該処理室内に燃焼ガスの均一な雰囲気を形成する処理雰囲気形成手段と、前記処理室内に不活性ガスを導入して前記燃焼ガスの反応性を調整する不活性ガス導入手段とを具備し、前記処理雰囲気形成手段が、前記処理室に設けられたガス排出口を含み且つ当該ガス排出口の開閉を制御して前記連通部から導入される燃焼ガスの流れを制御する制御手段を具備することを特徴とする加熱処理装置。
IPC (7件)：
F27D 7/02 ( 200 6.01) ,  F27B 9/24 ( 200 6.01) ,  F27B 9/36 ( 200 6.01) ,  F27B 9/04 ( 200 6.01) ,  F27D 7/06 ( 200 6.01) ,  F27B 17/00 ( 200 6.01) ,  F27D 7/04 ( 200 6.01)
FI (7件)：
F27D 7/02 A ,  F27B 9/24 E ,  F27B 9/36 ,  F27B 9/04 ,  F27D 7/06 C ,  F27B 17/00 B ,  F27D 7/04
引用特許：
出願人引用 (13件)
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審査官引用 (12件)
  • 熱処理炉
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-311676   出願人：株式会社サンセルト
  • 気流炉
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-343421   出願人：日本ファーネス工業株式会社
  • 特開平4-106315
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