{{ $t("message.ADVERTISEMENT") }}
{{ $t("message.AD_EXPIRE_DATE") }}2024年03月
文献
J-GLOBAL ID:201302213984547887   整理番号:13A0724696

(100)立方晶単結晶基板上にエピタキシャル成長した3d強磁性遷移金属薄膜の構造解析

Structural Characterization of 3d Ferromagnetic Transition Metal Thin Films Epitaxially Grown on (100)-Oriented Cubic Single-Crystal Substrates
著者 (2件):
資料名:
巻: 37  号: 13(MMS2013 14)  ページ: 39-44  発行年: 2013年03月01日 
JST資料番号: S0209A  ISSN: 1342-6893  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
3d強磁性遷移金属(Fe,Co,Ni)およびこれらの合金の薄膜をMgO,SrTiO3,および,GaAsの(100)単結晶基板上に形成し,RHEED,XRD,および,TEMにより成長機構および構造を調べた。いずれの基板上においても,bcc構造を持つFe,Fe65Co35,Fe50Co50,Fe80Ni20(at.%)膜が形成された。MgO基板上に300°Cより高温でエピタキシャル成長したCo膜は,hcp構造を持ち,(1120)が基板面と平行に配向した双晶から構成された。一方,100°Cで形成したエピタキシャル膜は,hcp(1120)結晶に加え,fcc(100)結晶を含む混合結晶から構成された。MgO基板上に形成したCo80Ni20膜では,成長温度に関わらず,hcp(1120)およびfcc(100)の複合結晶が形成された。NiおよびNi80Fe20膜においても,fcc(100)結晶に加え,準安定なhcp(1120)結晶が形成された。膜厚の増加に伴い,hcp-Niおよびhcp-Ni80Fe20結晶は(0001)最密充填面のすべりにより安定なfcc(110)結晶に変態する傾向が認められた。SrTiO3基板上にエピタキシャル成長したCo,Co80Ni20,Ni,および,Ni80Fe20膜はfcc構造を持った。GaAs基板上におけるCo,Ni,および,Ni80Fe20膜の成長初期段階においては,準安定なbcc結晶がヘテロエピタキシャル成長により安定化された。しかしながら,膜厚の増加に伴い,準安定bcc結晶も{110}最密充填面のすべりにより安定なfcc結晶に変態した。MgO基板上にエピタキシャル成長した膜の歪は,格子ミスマッチが3~17%と大きいにも関わらず,非常に小さいことがXRD解析により示された。ミスマッチを低減させるために,膜と基板の界面付近の膜中において,多くのミスフィット転位が導入されることが高分解能断面TEM観察により分かった。(著者抄録)
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
結晶学一般  ,  薄膜成長技術・装置 

前のページに戻る