特許

J-GLOBAL ID：200903029201683266

超音波処理装置および超音波処理方法

発明者： 安田 賢二
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-232050
公開番号（公開出願番号）：特開平11-057459
出願日： 1997年08月28日
公開日（公表日）： 1999年03月02日
要約：

【要約】【課題】 溶液の流れによる濃縮あるいは分離したい試料微粒子を含む溶液が流れてくるのに応じて、超音波振動子から発生される超音波のオン、オフを制御する手段を有する微粒子処理装置を提供すること。【解決手段】 試料微粒子を導入する管と、管内に導入された試料溶液に超音波を照射する超音波トランスデューサーと、超音波を照射された後に、溶液を分岐させその各々を回収する管からなり、超音波トランスデューサーの電極板の片面が溶液に接するように配置されたおり、導電性を持つ試料溶液が、この超音波トランスデューサに達したときにのみ、導電性を持つ試料溶液を通じて超音波トランスデューサーが通電し、超音波トランスデューサーから超音波が照射される手段を有する。

請求項（抜粋）：

微粒子を含む導電性の流体をおさめる容器と、前記容器に前記流体を導入する手段と、前記容器中の前記流体に接するように配置された超音波発生源と、前記容器内に配置された前記流体に直接接触するように配置された電極と、前記容器から前記流体中の微粒子成分を排出させる手段と、前記容器から微粒子成分を含まない流体を排出する手段と、前記導電性の流体が前記電極に接したときに前記超音波発生源から超音波を照射する手段と、を有することを特徴とする超音波処理装置。