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J-GLOBAL ID：201602290751332465   整理番号：16A0852003

WをドープしたVO_2薄膜の楕円偏光スペクトル特性【JST・京大機械翻訳】

Spectroscopic Ellipsometry Characterization of Tungsten-doped Vanadium Oxide Films

著者 (6件)： Wang Panpan (Shanghai Institute of Ceramics Chinese Academy of Sciences) ,  Zhang Yunlong (Shanghai Institute of Ceramics Chinese Academy of Sciences) ,  Wu Lingnan (Shanghai Institute of Ceramics Chinese Academy of Sciences) ,  Cao Yunzhen (Shanghai Institute of Ceramics Chinese Academy of Sciences) ,  Song Lixin (Shanghai Institute of Ceramics Chinese Academy of Sciences) ,  Zhang Yuzhi (Shanghai Institute of Ceramics Chinese Academy of Sciences)
資料名： Guisuanyan Xuebao  (Guisuanyan Xuebao)
巻： 44  号： 3  ページ： 464-468  発行年： 2016年 
JST資料番号： W1454A  ISSN： 0454-5648  CODEN： KSYHA5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： MSP-32003共スパッタコーターを用いて,無線周波数マグネトロンスパッタリングで石英基板上にスパッタリングした単斜晶相(M相)VO_2薄膜およびWドープ単斜晶相(M相)VO_2薄膜を反応。利用WVASE32は楕円及び光偏光計(ISP)は変温付属品350~2 500 NMの波長範囲内で相転移前後のVO_2薄膜およびWをドープしたVO_2薄膜に対してスペクトルテストを行った有効媒質結合共振子色散LORENTZモデルを用いた近似モデルを偏光解析パラメータに対してフィッティングを行った。結果:純粋相のWをドープしたVO_2薄膜とVO_2薄膜を比較して,光学定数N、Kの波長に伴う変化傾向は同じであった,しかしWドープ後のVO_2薄膜の屈折率Nは純相VO_2薄膜の屈折率は,消衰係数Kの値が大きいために純粋相VO_2薄膜のK値より小さい。Wの取り込みは増加した薄膜の密度,薄膜内部の自由キャリアの濃度を同時に増加させた。Data from the ScienceChina, LCAS.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 光学定数 ,  波長 ,  *楕円偏光 ,  屈折率 ,  *偏光 ,  単斜晶系 ,  *ドーピング ,  マグネトロンスパッタリング ,  偏光計 ,  *薄膜
準シソーラス用語： 自由キャリア ,  消衰係数 ,  石英基板 ,  無線周波数 ,  *スペクトル特性 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： vanadium oxide film ,  phase transition ,  spectroscopic ellipsometry ,  optical constants

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  光物性一般  (BM08010A)

タイトルに関連する用語 (4件)： ドープ ,  薄膜 ,  楕円偏光 ,  スペクトル特性