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J-GLOBAL ID:201602290907398680   整理番号:16A0624717

分光エリプソメトリープサイ/デルタ対時間データを解析するために従来のアプローチを再評価する。追加の統計的厳密さはしばしば妥当であるかも知れない

Reevaluating the conventional approach for analyzing spectroscopic ellipsometry psi/delta versus time data. Additional statistical rigor may often be appropriate
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資料名:
巻: 48  号:ページ: 186-195  発行年: 2016年04月 
JST資料番号: E0709A  ISSN: 0142-2421  CODEN: SIANDQ  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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薄膜の安定性を確認するための標準アプローチは,分光エリプソメトリー(SE)によって拡大期間にわたってのそれらのプローブおよびスペクトル範囲にまたがっていくつかの選ばれた波長にて結果として生じるプサイ(Ψ)とデルタ(Δ)値対時間のプロットよりなる。一般的に,ΨとΔが時間と共に一定を保つか,または本質的に一定であるなら,材料は安定であると見なされる。ここに,著者らはこの‘目視’アプローチに加えて,データの統計解析はしばしば妥当であるかも知れないことを提案する。特に,著者らは従来アプローチにより本質的に一定のままであるとみられるスパッタビスマス-テルル-セレン膜から1組のΨ/Δ対時間データを再評価して,それを距離解析,主成分分析およびクラスタ分析にかける。特に範囲選択データ(300~989nm)へのこれらの統計的手段の応用は以前,観察されなかった変化を明らかにして,問題の膜か,または分析アプローチそれ自身のいずれかが測定の過程中,変化していたことを示唆する。ΨおよびΔの加重距離公式も応用したので,データは観察されるための重要な効能にとって範囲選択される必要がなかった。距離アプローチは,(i)標準アプローチでははっきりしなかった材料の一致した変化を明らかにしたカーボン薄膜からの1組のSEデータに対して,および(ii)故意に汚染されたか,または不適切に測定された試料に対して同様に応用された。このように,著者らはSEΨ/Δ対時間データに対してより厳密な統計アプローチを推奨する。Copyright 2016 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (3件):
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偏光測定と偏光計  ,  金属薄膜  ,  金属の表面構造 
タイトルに関連する用語 (5件):
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