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J-GLOBAL ID:201702214037019281   整理番号:17A0388712

微小共振器型による伸縮インプリントプロセスを用いた高アスペクト比をもつ方向性ナノピラーの作製【Powered by NICT】

Fabrication of directional nanopillars with high-aspect-ratio using a stretching imprint process with a microcavity mold
著者 (9件):
資料名:
巻:号:ページ: 2172-2177  発行年: 2017年 
JST資料番号: W2323A  ISSN: 2040-3364  CODEN: NANOHL  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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高アスペクト比を有する方向性ナノピラーは,家庭や産業機器と生体模倣ロボットにおける幅広い用途を有する。,それらの作製は,従来法の課題である。本研究では,微小共振器型を用いた高アスペクト比(>30)と制御可能な方向性(30°傾斜角 90°)ナノピラー(直径200 800nm)を調製し,通常のナノインプリントプロセスを超えて,鋳型から1:1パターン転写のためのレプリカに簡単な伸縮インプリントプロセスを提案した。伸縮インプリントプロセスの機構をさらに調べ,伸張プロセス中のフィラメント発展のためのレオロジーモデルを構築し,これはアスペクト比,サブミクロン直径,傾斜角,自立ナノピラーの先端プロファイルは微小共振器型を用いたインプリントプロセスにより容易に制御できることを明確に示した。更なる実験は,作製した方向性自立ナノピラーは,強い摩擦異方性,生体模倣研究で用途を見出すかも知れないことを示した。Copyright 2017 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
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固体デバイス製造技術一般  ,  塩基,金属酸化物 

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