文献

J-GLOBAL ID：201702251174057888   整理番号：17A0759068

イオン注入とリソグラフィーの組合せによる横方向磁気変調多層膜【Powered by NICT】

Lateral Magnetically Modulated Multilayers by Combining Ion Implantation and Lithography

著者 (15件)： Menendez Enric (KU Leuven, Instituut voor Kern- en Stralingsfysica, Celestijnenlaan 200 D, 3001, Leuven, Belgium) ,  Modarresi Hiwa (KU Leuven, Instituut voor Kern- en Stralingsfysica, Celestijnenlaan 200 D, 3001, Leuven, Belgium) ,  Petermann Claire (KU Leuven, Instituut voor Kern- en Stralingsfysica, Celestijnenlaan 200 D, 3001, Leuven, Belgium) ,  Nogues Josep (Catalan Institute of Nanoscience and Nanotechnology (ICN2), CSIC and The Barcelona Institute of Science and Technology, Campus UAB, Bellaterra, 08193, Barcelona, Spain) ,  Nogues Josep (ICREA, Pg. Lluis Companys 23, 08010, Barcelona, Spain) ,  Domingo Neus (Catalan Institute of Nanoscience and Nanotechnology (ICN2), CSIC and The Barcelona Institute of Science and Technology, Campus UAB, Bellaterra, 08193, Barcelona, Spain) ,  Liu Haoliang (KU Leuven, Laboratorium voor Vaste-Stoffysica en Magnetisme, Celestijnenlaan 200 D, 3001, Leuven, Belgium) ,  Kirby Brian J. (NIST Center for Neutron Research, National Institute of Standards and Technology, Gaithersburg, Maryland 20899, USA) ,  Mohd Amir Syed (Juelich Centre for Neutron Science (JCNS) at Heinz Maier-Leibnitz Zentrum (MLZ), Forschungszentrum Juelich GmbH, 85747, Garching, Germany) ,  Salhi Zahir (Juelich Centre for Neutron Science (JCNS) at Heinz Maier-Leibnitz Zentrum (MLZ), Forschungszentrum Juelich GmbH, 85747, Garching, Germany) ,  Babcock Earl (Juelich Centre for Neutron Science (JCNS) at Heinz Maier-Leibnitz Zentrum (MLZ), Forschungszentrum Juelich GmbH, 85747, Garching, Germany) ,  Mattauch Stefan (Juelich Centre for Neutron Science (JCNS) at Heinz Maier-Leibnitz Zentrum (MLZ), Forschungszentrum Juelich GmbH, 85747, Garching, Germany) ,  Van Haesendonck Chris (KU Leuven, Laboratorium voor Vaste-Stoffysica en Magnetisme, Celestijnenlaan 200 D, 3001, Leuven, Belgium) ,  Vantomme Andre (KU Leuven, Instituut voor Kern- en Stralingsfysica, Celestijnenlaan 200 D, 3001, Leuven, Belgium) ,  Temst Kristiaan (KU Leuven, Instituut voor Kern- en Stralingsfysica, Celestijnenlaan 200 D, 3001, Leuven, Belgium)
資料名： Small  (Small)
巻： 13  号： 11  ページ： ROMBUNNO.201603465  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2348A  ISSN： 1613-6810  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： リソグラフィーとイオン注入の組合せは,横方向多層膜を調製するのに適した方法であることを示した。Co交互(幅1.6μm)とCo-CoO(2.4μm幅)線から成る横方向に,組成,磁気的に変調されたマイクロスケールパターンリソグラフィーマスクされたAuでサンドイッチしたCo薄膜中への酸素イオン注入によって得た。線(すなわち,電流と印加磁場は線に平行)に沿った磁気抵抗は,室温での有効正の巨大磁気抵抗(GMR)挙動を明らかにした。逆に,O注入領域は交換結合なるため低温(すなわち,10K)で区別される異方性磁気抵抗とGMRの寄与。平面GMRは,主にスプリング磁石型配置の保磁力の空間変調,Co/Co CoO界面における180°Neel外因性ドメイン壁をもたらすに起因している。この方法の,パターンサイズ,形態および組成調整の観点から,汎用性は,特に,スピントロニクスの研究と応用のための平面システムを作製するためのユニークな経路を提供する。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 薄膜 ,  界面 ,  磁気抵抗 ,  *多層膜 ,  磁石 ,  酸素 ,  *イオン注入 ,  金 ,  保磁力 ,  電流 ,  *リソグラフィー ,  スピントロニクス ,  *磁気
準シソーラス用語： 交換結合 ,  巨大磁気抵抗 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： イオン注入 ,  横方向多層膜 ,  リソグラフィー ,  磁気抵抗 ,  プレーナ技術

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  顕微鏡法  (BK01040E)

タイトルに関連する用語 (5件)： イオン注入 ,  リソグラフィー ,  組合せ ,  横方向 ,  多層膜