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J-GLOBAL ID:201702281511711267   整理番号:17A0754182

CoCrCuFeNi薄膜の不純物に制御された膜の成長と弾性特性【Powered by NICT】

Impurity-controlled film growth and elastic properties of CoCrCuFeNi thin films
著者 (5件):
資料名:
巻: 315  ページ: 475-483  発行年: 2017年 
JST資料番号: D0205C  ISSN: 0257-8972  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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金属薄膜の物理気相堆積中の成長モードが不純物種の存在に非常に敏感である。これらの不純物は真空チャンバ中に存在する残留雰囲気ガスから発生し,通常核形成を誘導することにより継続的な結晶成長を妨げることができる。中間ベース圧力(10~ 4 Pa)でマグネトロンスパッタリングの間に,これらの不純物の影響は金属フラックスへの不純物フラックスの比から推定することができる。本研究では,CoCrCuFeNi高エントロピー合金(HEA)薄膜の成長モードに及ぼす環境不純物フラックスの影響を調べた。不純物への金属フラックス比はナノ結晶CoCrCuFeNi薄膜の集合組織,結晶粒径,空隙率,および弾性特性を有効に制御できることを示した。不明確(111)繊維集合組織が高い不純物への金属フラックス比で観察された。不純物への金属フラックス比が増加すると粒径は減少し,一方気孔率は増加した。弾性定数およびCoCrCuFeNiのYoung率は<111>方向で最大であることが報告されている。膜集合組織の変化についても,弾性定数と種々の方位を持つより多くの粒子は,より高いフラックス比で観測されたとして低くなる傾向にあるYoung率に影響する。本研究では,スパッタ蒸着中のベース圧力と蒸着速度の不純物に金属フラックス比,または他の状態の正確な知識は,再現性のある特性を持つHEA膜の合成のために不可欠であることを示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (4件):
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金属薄膜  ,  炭素とその化合物  ,  機械的性質  ,  肉盛 
タイトルに関連する用語 (4件):
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