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J-GLOBAL ID：201602242779316081   整理番号：16A0902401

パルス伸張圧縮プロセスによって制限された1053nmにおける高コントラスト増幅【Powered by NICT】

High contrast amplification at 1053 nm limited by pulse stretching-compressing process

著者 (8件)： Lu Xiaoming (School of Physics Science and Engineering, Tongji University) ,  Peng Yujie (Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences) ,  Li Yanyan (Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences) ,  Guo Xiaoyang (Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences) ,  Leng Yuxin (Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences) ,  Sui Zhan (Shanghai Institute of Laser Plasma) ,  Xu Yi (Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences) ,  Wang Xinliang (School of Physics Science and Engineering, Tongji University)
資料名： Zhongguo Guangxue Kuaibao(Yingwenban)  (Zhongguo Guangxue Kuaibao(Yingwenban))
巻： 14  号： 2  ページ： 023201-1-023201-5  発行年： 2016年 
JST資料番号： C2637A  ISSN： 1671-7694  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高コントラスト,高エネルギーシード注入,低利得光パラメトリックチャープパルス増幅(OPCPA),Nd:ガラス増幅器に基づく高コントラストレーザ,高出力Ndドープガラスチャープパルス増幅(CPA)レーザシステムの高コントラストフロントエンドとして使用できるについて報告した。引き伸ばされた1053nm高コントラストシードパルスのエネルギーはパルス洗浄装置における周波数逓倍結晶を最適化することにより,60μJに増加した。二段階低利得OPCPA,2パス2ロッドNd:ガラス増幅器,および圧縮機を通過した後131mJ/282fsの増幅されたパルスを達成した。三次相関走査測定は十ps範囲のパルスコントラストは約10 (-7)-10(-8)であることを示した。ストレッチャーと圧縮機のみを通過する高コントラスト種子を用いて,コントラスト測定は伸縮圧縮過程は主に増幅されたパルスのコントラスト劣化をもたらすことを示した。Data from the ScienceChina, LCAS.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 周波数逓倍 ,  利得 ,  レーザシステム ,  延伸 ,  *コントラスト ,  最適化 ,  ガラス ,  洗浄装置 ,  圧縮機 ,  増幅器 ,  *パルス ,  高出力 ,  チャープパルス増幅 ,  改変
準シソーラス用語： ストレッチャー ,  高エネルギー , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 固体レーザ  (BD04080W) ,  非線形光学  (BD05000T)

タイトルに関連する用語 (6件)： パルス ,  伸張 ,  プロセス ,  制限 ,  高コントラスト ,  増幅