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J-GLOBAL ID：201602281869603843   整理番号：16A1013517

空間分光に基づく納米級調焦調平測定技術【JST・京大機械翻訳】

Nanoscale Focusing and Leveling Measurement Technology Based on Optical Spatial Split

著者 (3件)： Sun Yuwen (Institute of Microelectronics,Chinese Academy of Sciences, Key Laboratory of Microelectronics Devices &Integrated Technology) ,  Li Shiguang (Institute of Microelectronics,Chinese Academy of Sciences, Key Laboratory of Microelectronics Devices &Integrated Technology) ,  Zong Mingcheng (Institute of Microelectronics,Chinese Academy of Sciences, Key Laboratory of Microelectronics Devices &Integrated Technology)
資料名： Guangxue Xuebao  (Guangxue Xuebao)
巻： 36  号： 5  ページ： 0512002-1-0512002-8  発行年： 2016年 
JST資料番号： C2088A  ISSN： 0253-2239  CODEN： GUXUDC  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 半導体製造は1X NM技術ノード時代に入った調焦調平システムの測定精度は,数十ナノメートルに達する。集積回路(IC)プロセスは,ナノスケールの範囲内では測定精度の影響を調焦調平へ非常に大きい。1つのモアレ干渉の干渉縞法の光学に基づく三角測量と調焦調平測定技術を提案し,空間分光システムを2群位相差Πのモアレ干渉縞を同時に2つの検出器にイメージングを用いて,正規化差分の方法によりシリコンウエハの高さを計算し,調焦調平測定技術のICプロセスへの感度を効果的に減少することができた,特にICプロセスによる光強度の変化の感受性。実験結果はこのシステムが測定再現性精度は8NM(3Σ)であり,線形精度は18NM(3Σ)であることを示した。測定した光強度変化は90%に達したとき,この測定技術による線形の精度変化は15NM(3Σ);光強度変化は,65%であったとき,精度の線形変化が1NM(3Σ)よりも小さい。Data from the ScienceChina, LCAS.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 三角測量 ,  正規化 ,  モアレ ,  測定精度 ,  干渉 ,  再現性 ,  集積回路 ,  *干渉縞 ,  線形性
準シソーラス用語： 光強度 ,  シリコンウエハ ,  差分 ,  位相差 ,  ナノスケール ,  半導体製造 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： measurement ,  focusing and leveling ,  spatial split ,  silicon wafer height ,  integrated circuit process

分類 (1件)： 干渉測定と干渉計  (BD07070G)

タイトルに関連する用語 (1件)： 分光