文献
J-GLOBAL ID:201702218459953951   整理番号:17A0755425

600/450mA/mmの記録的なドレーン電流をもつ絶縁体(GOOI)電界効果トランジスタ上の高性能Depletion/Enhancement常微分方程式β-Ga2O3【Powered by NICT】

High-Performance Depletion/Enhancement-ode $¥beta$ -Ga2O3 on Insulator (GOOI) Field-Effect Transistors With Record Drain Currents of 600/450 mA/mm
著者 (6件):
資料名:
巻: 38  号:ページ: 103-106  発行年: 2017年 
JST資料番号: B0344B  ISSN: 0741-3106  CODEN: EDLEDZ  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
本短報において,筆者らは600/450mA/mmの高いドレイン電流(I_D)記録に絶縁体(GOOI)電界効果トランジスタ(FET)高速depletion/enhancementモードβ-Ga_2O_3,他の報告されたI_D値よりもほぼ一桁に報告した。しきい値電圧(V_T)はβ-Ga_2O_3膜の厚さを変えることにより調節することができ,EモードGOOI FETはβ-Ga_2O_3膜厚を収縮させることにより簡単に実現できる。β-Ga_2O_3とSiO_2間の良好な界面とワイドバンドギャップβ-Ga_2O_3から恩恵を受けて,無視できる移動特性ヒステリシス,10~10の高いI_Dオン/オフ比,及び300nm SiO_2 140mV/decadeのサブしきい値スイングが観察された。ソースドレイン間隔0.9μmのEモードGOOI FETは,185Vの絶縁破壊電圧と平均電場(E)2MV/cmを示し,将来の電力デバイスのためのGOOI FETの大きな可能性を示した。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (1件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
トランジスタ 

前のページに戻る