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J-GLOBAL ID：201702247626664899   整理番号：17A0855346

単斜晶VO_2のNドープサーモクロミック膜における減少した相転移温度の観測【Powered by NICT】

Observation of reduced phase transition temperature in N-doped thermochromic film of monoclinic VO₂

著者 (7件)： Wan Meinan (State Key Laboratory of Silicate Materials for Architectures, Wuhan University of Technology, Wuhan 430070, PR China) ,  Xiong Mo (State Key Laboratory of Silicate Materials for Architectures, Wuhan University of Technology, Wuhan 430070, PR China) ,  Li Neng (State Key Laboratory of Silicate Materials for Architectures, Wuhan University of Technology, Wuhan 430070, PR China) ,  Liu Baoshun (State Key Laboratory of Silicate Materials for Architectures, Wuhan University of Technology, Wuhan 430070, PR China) ,  Wang Shuo (State Key Laboratory of Silicate Materials for Architectures, Wuhan University of Technology, Wuhan 430070, PR China) ,  Ching Wai-Yim (Department of Physics and Astronomy, University of Missouri-Kansas City, Kansas City, MO 64110, USA) ,  Zhao Xiujian (State Key Laboratory of Silicate Materials for Architectures, Wuhan University of Technology, Wuhan 430070, PR China)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 410  ページ： 363-372  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： VO_2の単斜晶系(M1)相に関する研究は,その例外的なサーモクロミック特性によるスマート塗料用途のための大きな関心を集めている。NH_3雰囲気中熱処理による高純度を有するNドープVO_2(M1)薄膜を合成するための新しい方法を用いた結果を報告した。膜中のNドーパントはアニーリングプロセス中のNH_3濃度を変えることにより調節できた。N原子は格子間位置または代替酸素原子に位置し,VO_2薄膜におけるV-N結合はNH_3濃度と共に増加することを見出した。VO_2薄膜の絶縁体転移(MIT)温度(τ_c,h)への金属が80.0から62.9°Cに効果的に低下させ,太陽変調効率(ΔT_sol)と2000nm(ΔT_2000nm)で変調効率はそれぞれ7.36%と55.6%であった。MIT(E_g_1)に関連したNドープVO_2薄膜のバンドギャップは0.18 0 0.25eV程度の低さであると推定された可視透明性(E_g_2)に関連したバンドギャップは約1.50 1 0.58eVであった。高度に正確な第一原理計算に基づいて,VO_2(M1)のE_g_1は置換あるいは格子間Nドーピング後に減少するが,E_g_2はN添加のモード,実験的測定との優れた一致を変化させる。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 太陽 ,  熱処理 ,  ドーパント ,  *単斜晶系 ,  バンドギャップ ,  *転移温度 ,  *ドーピング ,  絶縁体 ,  塗料 ,  薄膜
準シソーラス用語： 第一原理計算 ,  透明性 ,  酸素原子 ,  高純度 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： NドープVO_2(M1) ,  NH_3大気 ,  光学的性質 ,  エネルギーバンドギャップ ,  第一原理計算

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  金属-絶縁体転移  (BM02110T)

タイトルに関連する用語 (3件)： 単斜晶 ,  相転移温度 ,  観測