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J-GLOBAL ID：201702282050493787   整理番号：17A0733220

金属You表面Lv薄膜成長挙動のXPS研究【JST・京大機械翻訳】

XPS Study on Process of Aluminum Deposition on Uranium

著者 (4件)： LUO Li-zhu (National Key Laboratory for Surface Physics and Chemistry) ,  LIU Ke-zhao (China Academy of Engineering Physics) ,  YANG Jiang-rong (National Key Laboratory for Surface Physics and Chemistry) ,  XIAO Hong (China Academy of Engineering Physics)
資料名： Yuanzineng Kexue Jishu  (Yuanzineng Kexue Jishu)
巻： 43  号： 5  ページ： 395-399  発行年： 2009年 
JST資料番号： C2078A  ISSN： 1000-6931  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 室温,超高真空条件下で,ARイオンスパッタリング法を用いて,クリーン膜上にAL薄膜を蒸着し,X線光電子分光法(XPS)を用いて,アルミニウム薄膜の成長挙動を観察した。結果により、薄膜成長過程において、YouLvの界面には明らかな相互拡散挙動が存在し、同時にある程度の相互作用が発生し、金属間化合物UAL_Xが生成し、ウランとアルミニウムのXPS特性スペクトルが明らかに変化することが分かった。YouLvの間の相互拡散は,U,,,および404.2EVにおけるU4Fスペクトルの新しいエネルギー移動をもたらした。しかし,YouLvの金属間化合物の生成は,AL2P XPSスペクトルの低エネルギー端部への0.2EVのシフトをもたらした。堆積時間の増加とともに,エネルギー損失ピーク強度は徐々に増加し,AL2Pピークは徐々にAL金属のピーク位置にシフトし,ALの増加とともに,YouLv間の拡散挙動が強化され,YouLvの相互作用により生成した金属間化合物の組成は単一ではないことを示した。堆積過程において,アルミニウム薄膜は島状で成長した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： ウラン ,  *薄膜 ,  エネルギー損失 ,  相互拡散 ,  *薄膜成長 ,  スペクトル ,  X線光電子分光法 ,  相互作用 ,  超高真空 ,  エネルギー移動 ,  アルミニウム ,  X線光電子スペクトル ,  金属間化合物 ,  イオンビームスパッタリング ,  界面 ,  低エネルギー

著者キーワード (4件)： uranium ,  aluminum overlayer ,  XPS ,  growth mode

分類 (3件)： 電子分光スペクトル  (BM09060K) ,  二次電池  (YB04030K) ,  固体中の拡散一般  (BL06021L)

タイトルに関連する用語 (5件)： Lv ,  薄膜成長 ,  挙動 ,  XPS ,  研究