文献

J-GLOBAL ID：201702288830548138   整理番号：17A1140009

基板再利用に向けたELO後基板の清浄化工程と再成長の検討

クリップ

著者 (10件)： 宮下直也 (東大 先端科学技研セ) ,  八木修平 (埼玉大 大学院) ,  渡辺健太郎 (東大 先端科学技研セ) ,  木村大希 (東大 大学院) ,  SODABANLU Hassanet (東大 先端科学技研セ) ,  中田達也 (東大 大学院) ,  杉山正和 (東大 先端科学技研セ) ,  杉山正和 (東大 大学院) ,  岡田至崇 (東大 先端科学技研セ) ,  岡田至崇 (東大 大学院)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 78th  ページ： ROMBUNNO.6p-PA5-23  発行年： 2017年08月25日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *基板 ,  *再利用 ,  *微細加工 ,  *洗浄 ,  *表面分析 ,  *結晶成長 ,  品質 ,  *ヒ化ガリウム ,  インジウム化合物 ,  ガリウム化合物 ,  リン化物 ,  *エッチング ,  X線光電子分光法 ,  *太陽電池 ,  *量子効率 ,  ヒ化アルミニウム ,  層 ,  エピタキシャルリフトオフ ,  *再成長 ,  結晶品質 ,  *選択エッチング ,  リン化ガリウムインジウム
準シソーラス用語： 表面浄化 ,  GaInP ,  外部量子効率 ,  AlAs ,  犠牲層

分類 (2件)： 太陽電池  (NC03084O) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： 再利用 ,  清浄化 ,  再成長