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J-GLOBAL ID:201702290988772764   整理番号:17A0364676

Ge放射線検出器の表面不動態化のためのゲルマニウム窒化物および酸窒化物膜【Powered by NICT】

Germanium nitride and oxynitride films for surface passivation of Ge radiation detectors
著者 (13件):
資料名:
巻: 393  ページ: 119-126  発行年: 2017年 
JST資料番号: B0707B  ISSN: 0169-4332  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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Ge放射線検出器への不動態化層として応用される窒化ゲルマニウムと酸化窒化けい素膜の性質の詳細な研究を報告した。全ての試料は反応性RFマグネトロンスパッタリングにより室温で堆積した。蒸着パラメータ,蒸着速度,基板バイアスと雰囲気組成のような,膜マトリックス中の酸素と窒素含有量の間の強い相関を見出した。は,すべての膜が温度の関数として三~六桁から抵抗率と非常に不完全に結晶化された,非常に小さなGe窒化物及び酸化窒化物ナノ結晶から成る,電気絶縁性,ことを見出した。不動態化層としてこれらの膜の予備試験は高純度ゲルマニウム(H PGe)ダイオードの固有表面上のゲルマニウム窒化膜を蒸着し,改善された性能を測定し,漏れ電流の観点から,参照不動態化ダイオードに関して成功した。全てのこれらの興味ある結果は,ゲルマニウムベース放射線検出器の表面不動態化にこの被覆技術の応用を想定することができた。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (3件):
分類
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酸化物薄膜  ,  金属-絶縁体-半導体構造  ,  固体デバイス製造技術一般 

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