特許
J-GLOBAL ID：201703002559152570

導電性ナノセルロース集合体の製造方法

発明者：
古賀 大尚

古賀 大尚 について

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菅沼 克昭

菅沼 克昭 について

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能木 雅也

能木 雅也 について

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内田 博

内田 博 について

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大籏 英樹

大籏 英樹 について


出願人/特許権者：
国立大学法人大阪大学

国立大学法人大阪大学 について

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昭和電工株式会社

昭和電工株式会社 について


代理人 (2件)： 在原 元司 ,  竹居 信利
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-170120
公開番号（公開出願番号）：特開2017-050303
出願日： 2015年08月31日
公開日（公表日）： 2017年03月09日
要約：
【課題】ナノセルロースに吸着された酸化グラフェンの還元処理の効率が高い導電性ナノセルロース集合体の製造方法を提供する。【解決手段】ナノセルロースとカチオン性高分子電解質と酸化グラフェンとを水中で混合して混合液を得る混合液調製工程と、上記混合液から水を除去しつつ、酸化グラフェンが吸着したナノセルロースの集合体を形成するナノセルロース集合体形成工程と、形成したナノセルロース集合体に水以外の極性溶媒を通過させて溶媒処理を行う溶媒処理工程と、溶媒処理したナノセルロース集合体を乾燥する乾燥工程と、乾燥したナノセルロース集合体に光照射を行いナノセルロースに吸着された酸化グラフェンを還元する光還元工程と、を備える。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
ナノセルロースとカチオン性高分子電解質と酸化グラフェンとを水中で混合して混合液を得る混合液調製工程と、 前記混合液から水を除去しつつ、酸化グラフェンが吸着したナノセルロースの集合体を形成するナノセルロース集合体形成工程と、 前記形成したナノセルロース集合体に水以外の極性溶媒を接触させて溶媒処理を行う溶媒処理工程と、 前記溶媒処理したナノセルロース集合体を乾燥する乾燥工程と、 前記乾燥したナノセルロース集合体に光照射を行い前記ナノセルロースに吸着された酸化グラフェンを還元する光還元工程と、 を備える、導電性ナノセルロース集合体の製造方法。
IPC (2件)：
H01G 11/86 ,  H01G 11/32
FI (2件)：
H01G11/86 ,  H01G11/32
Fターム (3件)：
5E078BA12 ,  5E078BA30 ,  5E078BB21
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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引用文献：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

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