特許
J-GLOBAL ID:201303066854447458

酸化グラフェンの還元方法およびその方法を利用した電極材料の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大川 浩一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-013924
公開番号(公開出願番号):特開2013-151398
出願日: 2012年01月26日
公開日(公表日): 2013年08月08日
要約:
【課題】酸化グラフェンを効率的に還元することができる、酸化グラフェンの還元方法およびその方法を利用した電極材料の製造方法を提供する。【解決手段】電解液中の酸化グラフェンに電位-0.4〜0.7Vの範囲で交流電圧を印加しながら光を照射して、酸化グラフェンを還元することにより、酸化グラフェン還元物からなる電極材料を製造する。セリウムイオンなどの金属イオンを含む電解液を使用すると、酸化グラフェン還元物と、その表面または層間に担持された金属の酸化物または水酸化物とからなり、電気容量が200F/g以上の電極材料を製造することができる。【選択図】図4
請求項(抜粋):
酸化グラフェンに交流電圧を印加しながら光を照射して、酸化グラフェンを還元することを特徴とする、酸化グラフェンの還元方法。
IPC (3件):
C01B 31/02 ,  H01M 4/96 ,  H01G 11/22
FI (3件):
C01B31/02 101Z ,  H01M4/96 B ,  H01G9/00 301A
Fターム (30件):
4G146AA01 ,  4G146AA15 ,  4G146AB07 ,  4G146AC19B ,  4G146AD23 ,  4G146AD28 ,  4G146CB13 ,  4G146CB16 ,  4G146CB32 ,  5E078AA01 ,  5E078AB02 ,  5E078AB04 ,  5E078BA18 ,  5E078BA27 ,  5H018AA01 ,  5H018AA10 ,  5H018AS03 ,  5H018BB17 ,  5H018EE06 ,  5H018EE11 ,  5H018EE12 ,  5H018HH06 ,  5H032AA02 ,  5H032AS12 ,  5H032BB07 ,  5H032BB10 ,  5H032CC11 ,  5H032EE01 ,  5H032EE02 ,  5H032HH08
引用特許:
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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引用文献:
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