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J-GLOBAL ID:202402211714893669   整理番号:24A1752010

高性能ペロブスカイト太陽電池のためのオレイン酸ニッケルルートによる酸化ニッケル正孔輸送層のその場成長【JST機械翻訳】

In Situ Growth of Nickel Oxide Hole-Transport Layer through the Nickel Oleate Route for High-Performance Perovskite Solar Cells
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著者 (8件):
資料名:
巻:号:ページ: 4523-4531  発行年: 2024年 
JST資料番号: W5669A  ISSN: 2637-6113  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
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酸化ニッケルは,ペロブスカイト太陽電池(PSC)において用いられる正孔輸送層として有望な代替物となっている。しかしながら,酸化ニッケルナノ粒子(NP)は酸化ニッケル膜を形成するためにしばしば必要であり,それは調製した酸化ニッケル膜においていくつかの微小亀裂,表面結晶欠陥,および不均一性を引き起こすかもしれない。本論文では,前駆体としてオレイン酸ニッケルを用いた均一な酸化ニッケル膜のin situ成長を実現するために,酸化ニッケルNPをバイパスする戦略を設計した。したがって,FTO/NiO/MAPbI_3/PC_61BM/Agの構造を有する調製したペロブスカイト太陽電池(PSC)は,調製したおよび市販の酸化ニッケルNPのそれぞれ11.71および9.15%と比較して,16.19%までの優れた光電変換効率(PCE)を示した。このチャンピオンPCE(16.19%)は,同一構造のデバイスに関する研究で報告されたものより高いことが注目される。さらに,オレイン酸ニッケル金属戦略に基づくデバイスの平均短絡電流(J_SC),開回路電圧(V_OC),およびフィルファクタ(FF)は,ゾル-ゲル法によってNiO NPから調製したものよりもはるかに高かった(それぞれ19.46対17.24mA/cm2,1.072対1.041V,および0.776対0.653)。本研究は,増加した均一性と対応する高性能PSCを有する酸化ニッケル膜を生成するための信頼できる手段を提供した。Copyright 2024 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST機械翻訳】
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太陽電池 
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