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J-GLOBAL ID：201002264109268313   整理番号：10A1026013

ノボラック系ポジ型レジスト中の感光剤量の相違による現像特性

著者 (6件)： 中尾昭和 (金沢工大) ,  山本雅史 (金沢工大) ,  河野昭彦 (金沢工大) ,  堀邊英夫 (金沢工大) ,  関口淳 (リソテックジャパン) ,  田中初幸 (AZエレクトロニックマテリアルズ)
資料名： 電子情報通信学会論文誌 C  (IEICE Transactions on Electronics (Japanese Edition))
巻： J93-C  号： 10  ページ： 360-366  発行年： 2010年10月01日 
JST資料番号： S0623C  ISSN： 1345-2827  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ノボラック系ポジ型レジストにおいて,感光剤(Photo Active Compound;PAC)量がレジストの現像特性に与える影響をSwing Curveの感度E_th(60秒で現像できる露光量),振幅,バルク効果(レジスト初期膜厚に対するSwing Curveの傾き)により明らかにした。また,PAC量がレジストの光学特性に与える影響を感光パラメータ(A;PACの光吸収B;感光後のレジストの光吸収C;PACの光分解速度)より検討した。レジスト中のPAC量が増加すると光吸収量が増加しE^thは増加した。また,PAC量が増加するとレジストへの溶解抑止効果及び溶解促進効果とも高くなり,Swing Curveの振幅は大きくなった。更に,PAC量が増加するとレジスト初期膜厚に対して感光量が増加し,バルク効果は増加した。一方,感光パラメータに関しては,PAC量が増加すると光吸収量が増加し,Aパラメータが大きくなった。また,感光後の感光剤に含まれるベンゾフェノン骨格による光吸収が増加し,Bパラメータについても大きくなった。一方,Cパラメータに関しては,同一のPACを使用しているためほぼ一定となった。(著者抄録)

シソーラス用語： ノボラック ,  *レジスト ,  *光増感剤 ,  *現像 ,  感度 ,  感度解析 ,  パラメータ
準シソーラス用語： *ポジティブ型レジスト

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (11件)：

• M. Hanabata, A. Furuta, and Y. Uemura,“High resolution positive photoresists,” Advances in Resist Technology and Processing III, Proc. SPIE, 631, pp. 76-82, 1986.
• M. Hanabata, A. Furuta, and Y. Uemura,“Novolak design for high resolution positive photoresists,” Advances in Resist Technology and Processing IV, Proc. SPIE, 771, pp. 85-92, 1987.
• M. Hanabata, Y. Uetani, and A. Furuta,“Novolak design for high resolution positive photoresists II. Stone wall model for positive photoresist develop ment,” Advances in Resist Technology and Process ing V, Proc. SPIE, 920, pp. 349-354, 1988.
• M. Hanabata and A. Furuta,“Novolak design for high resolution positive photoresists III. A selection principle of phenolic compounds for novolak resins,” Advances in Resist Technology and Processing VII, Proc. SPIE, 1262, pp. 476-482, 1990.
• M. Hanabata, Y. Uetani, and A. Furuta,“Design concept for a high-performance positive photoresist,” J. Vac. Sci. Technol. vol. B7, no.4, pp. 640-650, 1989.

タイトルに関連する用語 (5件)： ノボラック ,  ポジ型レジスト ,  感光剤 ,  相違 ,  現像