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J-GLOBAL ID：201102291348163501   整理番号：11A0789304

PbTiO₃膜における積層欠陥形成による歪み緩和

著者 (9件)： 青柳健大 (東北大) ,  兒玉裕美子 (東北大) ,  木口賢紀 (東北大) ,  宇佐美徳隆 (東北大) ,  今野豊彦 (東北大) ,  江原祥隆 (東京工大) ,  舟窪浩 (東京工大) ,  山田智明 (名古屋大) ,  山田智明 (JST-さきがけ)
資料名： 日本セラミックス協会年会講演予稿集
巻： 2011  ページ： 244  発行年： 2011年03月16日 
JST資料番号： X0505A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *チタン酸鉛 ,  *積層欠陥 ,  *緩和現象 ,  MOCVD ,  被覆 ,  膜厚 ,  強誘電体 ,  *格子欠陥
準シソーラス用語： MOCVD被覆 ,  *歪緩和

分類 (3件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  セラミック・磁器の性質  (YC03030G) ,  強誘電体,反強誘電体,強弾性  (BM05030B)

タイトルに関連する用語 (2件)： 積層欠陥 ,  歪み緩和