特許
J-GLOBAL ID:201103050736665868

ガスクラスターイオンビーム照射装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 井上 学
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-343294
公開番号(公開出願番号):特開2006-156065
特許番号:特許第4636862号
出願日: 2004年11月29日
公開日(公表日): 2006年06月15日
請求項(抜粋):
【請求項1】クラスター発生機構、前記クラスター発生機構で発生させたクラスターのイオン化機構、前記イオン化機構でイオン化させたクラスターイオンの加速機構を備えたガスクラスターイオンビーム照射装置であって、照射するガスクラスターイオンのサイズ(N)と照射エネルギー(Ea)とワーク加工面の法線に対する角度(照射角:θ°)の関係が、0.02eV≦(Ea/N)×cos2θ≦0.5eVとなるように制御することを特徴とするガスクラスターイオンビーム照射装置。
IPC (2件):
H01J 37/30 ( 200 6.01) ,  C23F 4/00 ( 200 6.01)
FI (2件):
H01J 37/30 Z ,  C23F 4/00 A
引用特許:
審査官引用 (2件)
引用文献:
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