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J-GLOBAL ID：201202284530795875   整理番号：12A0587180

磁場中PLD法によるエピタキシャルBiFeO₃薄膜の作製と評価

著者 (5件)： PARK J.M. (大阪大 大学院) ,  中嶋誠二 (兵庫県大 工) ,  寒川雅之 (大阪大 大学院) ,  金島岳 (大阪大 大学院) ,  奥山雅則 (阪大 ナノサイエンスデザイン教育研究セ)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Spring Meeting, Japan Society of Applied Physics and the Related Societies)
巻： 59th  ページ： ROMBUNNO.18P-F5-5  発行年： 2012年02月29日 
JST資料番号： Y0054B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 磁場 ,  エピタクシー ,  *ビスマス化合物 ,  *酸化鉄 ,  *薄膜 ,  強誘電性 ,  反強磁性 ,  分極 ,  揮発性 ,  レーザ蒸着 ,  パルスレーザ

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  強誘電体,反強誘電体,強弾性  (BM05030B)

タイトルに関連する用語 (7件)： 磁場 ,  PLD法 ,  エピタキシャル ,  BiFeO3 ,  薄膜 ,  作製 ,  評価