プラズマ生成用ガスおよびプラズマ生成方法並びにこれにより生成された大気圧プラズマ

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：中尾俊輔 , 伊藤高英 , 畑中芳実 , 大倉奈緒子 , 玉利房枝 , 鈴木健之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-128588
公開番号（公開出願番号）：特開2012-256501
出願日： 2011年06月08日
公開日（公表日）： 2012年12月27日
要約：

【課題】プラズマ化が困難なガスのプラズマを容易に生成することができるプラズマ生成用ガスおよびプラズマ生成方法並びにこれにより生成された大気圧プラズマを提供する。【解決手段】大気圧プラズマを生成するために用いられるプラズマ生成用ガスであって、プラズマとなることにより処理能力を有するとともに、プラズマ生成用ガス全体をプラズマ源に搬送するためのベースガス(キャリアーガス)としてのアルゴン(Ar)と、前記大気圧プラズマの処理効果を向上する処理効果向上ガスとしての酸素ガスもしくは炭酸ガスとの混合ガスとした。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

大気圧プラズマを生成するために用いられるプラズマ生成用ガスであって、プラズマとなることにより処理能力を有するとともに、前記プラズマ生成用ガス全体をプラズマ源に搬送するためのベースガス(キャリアーガス)と、前記大気圧プラズマの処理効果を向上させるための処理効果向上ガスとの混合ガスとされることを特徴とするプラズマ生成用ガス。

IPC (3件)：

H05H 1/24 , C23F 4/00 , B08B 3/08

FI (3件)：

H05H1/24 , C23F4/00 A , B08B3/08 Z

Fターム (16件)：

3B201AB01 , 3B201BB21 , 3B201BB98 , 4G075AA03 , 4G075AA30 , 4G075BA05 , 4G075BB05 , 4G075BC06 , 4G075BD14 , 4G075CA47 , 4G075CA51 , 4G075DA02 , 4G075EB43 , 4G075EC21 , 4K057DD01 , 4K057DE20

引用特許：

審査官引用 (4件)

表面処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-355619 出願人：コニカ株式会社
移動基材のプラズマ表面処理の方法及び装置
公報種別：公表公報出願番号：特願2010-544903 出願人：フジフィルムマニュファクチュアリングヨーロッパビー.ヴィ.
プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2009-168147 出願人：パナソニック電工株式会社

全件表示

前のページに戻る