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J-GLOBAL ID：201402237454970081   整理番号：14A1100439

ALD法で成膜したAlO_xパッシベーションのバンド構造評価

著者 (15件)： 池野成裕 (明治大) ,  池野成裕 (日本学術振興会) ,  山下祥弘 (明治大) ,  陰地宏 (JASRI) ,  三木祥平 (兵庫県大) ,  新船幸二 (兵庫県大) ,  新船幸二 (JST-CREST) ,  吉田晴彦 (兵庫県大) ,  吉田晴彦 (JST-CREST) ,  佐藤真一 (兵庫県大) ,  佐藤真一 (JST-CREST) ,  廣沢一郎 (兵庫県大) ,  知京豊裕 (NIMS) ,  小椋厚志 (明治大) ,  小椋厚志 (JST-CREST)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 75th  ページ： ROMBUNNO.19P-A25-14  発行年： 2014年09月01日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 化学蒸着 ,  *酸化アルミニウム ,  *不動態化 ,  *バンド構造 ,  電荷 ,  X線光電子分光法 ,  シンクロトロン放射 ,  速度 ,  MOS構造 ,  容量電圧特性 ,  *表面準位 ,  *電子エネルギー損失スペクトル ,  エネルギーギャップ ,  酸化膜 ,  固定電荷 ,  *改変 ,  化成皮膜
準シソーラス用語： 原子層堆積 ,  再結合速度

分類 (2件)： 表面の電子構造  (BM02080J) ,  絶縁体結晶の電子構造  (BM02070Y)

タイトルに関連する用語 (5件)： ALD ,  成膜 ,  パッシベーション ,  バンド構造 ,  評価