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J-GLOBAL ID：201802212772348810   整理番号：18A1796433

多層膜KBミラーを用いたX線自由電子レーザーナノ集光システムの開発(第二報)-スペックルを利用したミラーアライメント調整精度の検討-

著者 (16件)： 井上陽登 (大阪大 大学院工学研究科) ,  松山智至 (大阪大 大学院工学研究科) ,  中村南美 (大阪大 大学院工学研究科) ,  湯本博勝 (高輝度光科学研究セ) ,  犬伏雄一 (高輝度光科学研究セ) ,  犬伏雄一 (理研 播磨研) ,  小山貴久 (高輝度光科学研究セ) ,  大坂泰斗 (理研 播磨研) ,  井上伊知郎 (理研 播磨研) ,  登野健介 (高輝度光科学研究セ) ,  登野健介 (理研 播磨研) ,  大橋治彦 (高輝度光科学研究セ) ,  矢橋牧名 (高輝度光科学研究セ) ,  矢橋牧名 (理研 播磨研) ,  石川哲也 (理研 播磨研) ,  山内和人 (大阪大 大学院工学研究科)
資料名： 精密工学会大会学術講演会講演論文集  (精密工学会大会シンポジウム資料集)
巻： 2018  号： 秋季(CD-ROM)  ページ： ROMBUNNO.D04-4  発行年： 2018年08月20日 
JST資料番号： Y0914A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 多層膜 ,  *反射鏡 ,  *X線自由電子レーザ ,  ナノ構造 ,  *集光器 ,  アラインメント ,  精度 ,  タンパク質 ,  分析 ,  干渉性散乱 ,  型 ,  X線反射 ,  Kirkpatrick-Baezミラー
準シソーラス用語： コヒーレント散乱 ,  スペックルパターン

分類 (1件)： X線技術  (BA02060D)

引用文献 (6件)：

• H. Mimura et al., Nat. Commun., 5, 3539 (2014)
• S. Matsuyama, et al. Opt. Express, 20, 24977 (2012)
• T. Inoue, et al., Rev. Sci. Instrum. 89, 043106 (2018)
• 井上陽登 他,2017年度精密工学会秋季大会学術講演会
• M. Sikorski et al., J. Synchrotron Rad. 22, 599 (2015)

タイトルに関連する用語 (7件)： 多層膜 ,  ミラー ,  X線自由電子レーザー ,  集光 ,  開発 ,  スペックル ,  アライメント