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J-GLOBAL ID:202102262686062320   整理番号:21A2925056

触媒表面基準エッチング法を用いた粒界段差フリーな超平滑多結晶表面の作製

Fabrication of atomically smooth polycrystalline surface without grain boundary steps by using catalyst-referred etching method
著者 (5件):
資料名:
巻: 2021  号: 秋季  ページ: ROMBUNNO.B27  発行年: 2021年09月08日 
JST資料番号: Y0914B  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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多結晶材料の平坦化を目的とし触媒金属および純水のみを用いる触媒表面基準エッチング法の利用を提案する.本手法は基準面を有する化学エッチングで試料の凸部のみを優先的にエッチングするため,ランダムな結晶方位を有する多結晶材料表面においても,超平滑な表面を取得できる.加工試料に多結晶SiC,YAGセラミクスを準備し,本手法を適応したところ,本手法の加工特性によって粒界段差のない,原子レベルで平滑な表面を実現した.(著者抄録)
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分類 (1件):
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その他の表面処理 
引用文献 (6件):
  • 山内和人,佐野泰久:触媒支援型化学加工方法,特許番号4506399号
  • A. Isohashi et al., Appl. Phys. Lett., 110 (2017) 201601.
  • D. Toh et al., Int. J. Automation Technol., 15 (2020) pp. 74-79
  • D. Toh et al., Rev. Sci. Instrum., 90 (2019) 045115.
  • 河原孝光 他(『精密工学会誌』第83号,2017年,833-836頁)
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