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J-GLOBAL ID：202502227741615328   整理番号：25A0683832

電子線描画HSQをマスクに用いたBiFe_0.9Co_0.1O₃ナノドットの作製

Fabrication of BiFe_0.9Co_0.1O₃ nanodot array with electron-beam-lithographed HSQ mask

著者 (12件)： 中山創 (東工大 フロンティア材料研) ,  吉川浩太 (東工大 フロンティア材料研) ,  LEE Koomok (東工大 フロンティア材料研) ,  安井学 (KISTEC) ,  金子智 (KISTEC) ,  黒内正仁 (KISTEC) ,  重松圭 (東工大 フロンティア材料研) ,  重松圭 (KISTEC) ,  重松圭 (東工大 住友化学次世代環境デバイス協働研究拠点) ,  東正樹 (東工大 フロンティア材料研) ,  東正樹 (KISTEC) ,  東正樹 (東工大 住友化学次世代環境デバイス協働研究拠点)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 71st  ページ： ROMBUNNO.23a-12H-9  発行年： 2024年03月05日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： 【緒言】我々は次世代の低消費電力不揮発性メモリへの応用を目指し、室温で強誘電・弱強磁性を併せ持つBiFe0.9Co0.1O3(BFCO)を研究している。これまで、プローブ顕微鏡による局所的な電場印加による面直磁化成分の反転の観測に成功した[...【本文一部表示】

シソーラス用語： 強磁性 ,  強誘電体 ,  磁化 ,  走査電子顕微鏡 ,  強誘電性 ,  弱い強磁性 ,  不揮発性メモリ ,  原子間力顕微鏡 ,  スピンコーティング ,  パルスレーザ蒸着 ,  ヒステリシスループ ,  ドメイン構造 ,  陽極酸化アルミニウム ,  *ナノドット
準シソーラス用語： 電圧印加 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (5件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  原子・分子のクラスタ  (BH09030O) ,  トランジスタ  (NC03070N) ,  界面の電気的性質一般  (BM03081H) ,  Josephson接合・素子  (BM04043E)

タイトルに関連する用語 (4件)： 電子線描画 ,  マスク ,  ナノドット ,  作製