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J-GLOBAL ID：202502238558548184   整理番号：25A0733723

電子線描画HSQをマスクに用いたBiFe_0.9Co_0.1O₃ナノドットの作製(2)

Fabrication of BiFe_0.9Co_0.1O₃ nanodot array with electron-beam-lithographed HSQ mask (2)

著者 (16件)： 中山創 (東京工大) ,  吉川浩太 (東京工大) ,  LEE Koomok (東京工大) ,  角嶋邦之 (東京工大) ,  角嶋邦之 (東工大 住友化学次世代環境デバイス協働研究拠点) ,  星井拓也 (東京工大) ,  星井拓也 (東工大 住友化学次世代環境デバイス協働研究拠点) ,  金子智 (KISTEC) ,  安井学 (KISTEC) ,  黒内正仁 (KISTEC) ,  重松圭 (東京工大) ,  重松圭 (東工大 住友化学次世代環境デバイス協働研究拠点) ,  重松圭 (KISTEC) ,  東正樹 (東京工大) ,  東正樹 (東工大 住友化学次世代環境デバイス協働研究拠点) ,  東正樹 (KISTEC)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 85th  ページ： ROMBUNNO.17a-B3-7  発行年： 2024年09月04日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： 【緒言】我々は次世代の低消費電力不揮発性メモリへの応用を目指し、室温で強誘電・弱強磁性を併せ持つBiFe0.9Co0.1O3(BFCO)を研究している。これまでにプローブ顕微鏡を用いた局所的な電場印加磁化反転の観測[1]や、陽極酸化アルミナ...【本文一部表示】

シソーラス用語： 強磁性 ,  コントラスト ,  磁区 ,  走査電子顕微鏡 ,  分極 ,  片持梁 ,  磁気 ,  不揮発性メモリ ,  磁化反転 ,  *電子ビームリソグラフィー ,  原子間力顕微鏡 ,  スピンコーティング ,  パルスレーザ蒸着 ,  ドメイン構造 ,  *ナノドット

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  酸化物結晶の磁性  (BM06050E)

タイトルに関連する用語 (4件)： 電子線描画 ,  マスク ,  ナノドット ,  作製