研究者
J-GLOBAL ID:200901049800841647   更新日: 2024年11月08日

宇野 和行

ウノ カズユキ | Uno Kazuyuki
所属機関・部署:
職名: 准教授
研究分野 (2件): 結晶工学 ,  電気電子材料工学
研究キーワード (7件): 酸化ガリウム ,  ミストCVD法 ,  酸化物半導体 ,  結晶成長 ,  化合物半導体 ,  光デバイス ,  半導体ナノ構造
競争的資金等の研究課題 (6件):
  • 2024 - 2027 α型酸化ガリウムの特異な緩和機構と光導電特性の研究
  • 2018 - 2021 高品質なα型酸化ガリウム系薄膜による量子ヘテロ構造物性の研究
  • 2006 - 2007 窒化物混晶半導体の発光機構の解明
  • 2004 - 2005 超格子混晶半導体の光学特性の研究
  • 2003 - 電気化学的手法による酸化物半導体結晶薄膜の成長
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論文 (59件):
  • 宇野和行, 田中一成, 尾友響. 深紫外光検出器を目指した酸化ガリウム薄膜の水晶基板上ミストCVD成長. 材料. 2024. 73. 10. 778-784
  • Kazuyuki Uno, Keishi Yamaoka. Improvement of Photoconductivity in a-Oriented α-Ga2O3 Thin Films Grown on Sapphire Substrates by Mist Chemical Vapor Deposition. physica status solidi (b). 2024. 261. 7. 2300463
  • Kazuyuki Uno, Marika Ohta. Control of Al composition of mist chemical vapor deposition grown α-(AlGa)2O3 alloy thin films by acetylacetonation of Al ion. Japanese Journal of Applied Physics. 2023. 62. SF1026
  • Yoshio Nakahara, Ken-ichiro Yamane, Tomoaki Nakagami, Kazuyuki Uno, Ichiro Tanaka. Polysilsesquioxane Gate Dielectric Layers Cured by Ultra-Violet Light Irradiation Using Thiol-Ene Reaction for Organic Thin-Film Transistors. physica status solidi (a). 2023
  • Marika Ohta, Hiroto Tamura, Kazuyuki Uno. Growth of α-(AlGa)2O3 alloy thin films on c-sapphire substrates by mist chemical vapor deposition using acetylacetonated Al and Ga solutions. Applied Physics Express. 2022. 15. 5. 055502
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特許 (10件):
書籍 (1件):
  • 半導体用語大辞典
    日刊工業新聞社 1999 ISBN:4526043419
講演・口頭発表等 (139件):
  • ミストCVD法における錯体化学と表面化学反応に基づく酸化物半導体の薄膜結晶成長
    (第11回工学研究シーズ合同発表会 2024)
  • 13族アセチルアセトナート錯体の第一原理計算による構造解析とミストCVD成長
    (日本材料学会半導体エレクトロニクス部門委員会2024年度第2回研究会 2024)
  • 水晶基板上に成長したアモルファス酸化ガリウム薄膜とその光導電特性
    (2024年第71回応用物理学会春季学術講演会, 24p-P16-6 2024)
  • ミストCVD法によるc, a, m, n, r面サファイア基板上へのα型酸化ガリウム薄膜高温成長
    (2023年第70回応用物理学会春季学術講演会, 23p-31A-7 2024)
  • アモルファス酸化ガリウムの成長と光導電特性
    (日本材料学会半導体エレクトロニクス部門2023年度第3回研究会 2024)
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Works (2件):
  • IRCA (Internet Relay Chat Adapter)
    宇野和行 1993 -
  • IRCW (Internet Relay Chat for Windows)
    宇野和行 1993 -
学歴 (2件):
  • 1990 - 1995 京都大学 工学研究科 電気工学専攻科
  • 1986 - 1990 京都大学 工学部 電気工学科
学位 (1件):
  • 博士(工学) (京都大学)
経歴 (6件):
  • 2008/04 - 現在 和歌山大学 システム工学部 准教授
  • 2005/04 - 2008/03 和歌山大学 システム工学部 助教授
  • 2002/04 - 2005/03 和歌山大学 システム工学部 講師
  • 1997/04 - 2002/03 和歌山大学 システム工学部 助手
  • 1995/09 - 1997/03 NEDO産業技術研究員
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委員歴 (26件):
  • 2023/09 - 現在 第5回酸化ガリウム国際ワークショップ (IWGO-5) 論文委員
  • 2012/09 - 現在 社団法人日本材料学会 半導体エレクトロニクス部門委員会委員
  • 2019/09 - 2023/10 第4回酸化ガリウム国際ワークショップ (IWGO-4) 実行委員
  • 2018/04 - 2020/03 The 9th Asia-Pacific Workshop on Widegap Semiconductors (APWS-9) Program Committee Member
  • 2017/04 - 2020/03 Compound Semiconductor Week 2019 Vice Chair of Steering Committee
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受賞 (3件):
  • 2022/10 - 和歌山大学システム工学部 システム工学部論文賞
  • 2021/09 - 和歌山大学システム工学部 グッドレクチャー賞(電磁気学I)
  • 2020/10 - 和歌山大学システム工学部 システム工学部論文賞
所属学会 (3件):
日本材料学会 ,  日本表面真空学会 ,  応用物理学会
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