研究者
J-GLOBAL ID:200901064052501500
更新日: 2022年09月13日
小寺 正敏
コテラ マサトシ | Kotera Masatoshi
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所属機関・部署:
大阪工業大学 工学部 電子情報通信工学科
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職名:
教授
ホームページURL (1件):
http://www.oit.ac.jp/elc/~kotera/index.html
研究分野 (3件):
電子デバイス、電子機器
, 電気電子材料工学
, 薄膜、表面界面物性
研究キーワード (12件):
磁界中の電子軌道シミュレーション
, 電界中の電子軌道シミュレーション
, 物質中の電子散乱シミュレーション
, 帯電分布計測
, 二次電子放出
, エネルギー蓄積分布
, 空間分解能
, 電子ビーム応用技術
, 表面界面物性
, 電子デバイス・機器工学
, Surface Physics
, Electronic Devives and Apparatias Engineering
競争的資金等の研究課題 (10件):
2016 - 2019 電子ビームリソグラフィにおける帯電の影響低減のための帯電現象のマルチスケール解析
2010 - 2013 電子ビーム照射による試料帯電の広範囲ナノメートル分解能・リアルタイム計測技術開発
2000 - Electrical charging of materials during electron beam irradiation
1998 - 電子ビームリソグラフィシステムの解析
1991 - 1994 静電型走査電子顕微鏡の製作
1984 - 走査電子顕微鏡像の理論解析
電子ビームを用いたサブミクロン加工技術
Sub-micron fablication technology with Electron Bea
Analysis of Electron Beam Lithography system
Theoretical Evaluation of the SEM Image
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MISC (76件):
Masatoshi Kotera, Takeshi Maekawa. Simulation of Fogging Electrons in Electron Beam Lithography. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2009. 48. 6. 06FB05-1
Tomotaka Kozuki, Hiroshi Suga, Norio Nawachi, Akira Yamamoto, Takahiro Tsutsumoto, Masatoshi Kotera. Development of new bio-electron microscope that uses DLC film. DIAMOND AND RELATED MATERIALS. 2009. 18. 5-8. 1019-1022
Masaaki Yasuda, Yasuaki Kainuma, Hiroaki Kawata, Yoshihiko Hirai, Yasuhiro Tanaka, Rikio Watanabe, Masatoshi Kotera. Time-dependent charge distributions in polymer films under electron beam irradiation. JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2008. 104. 12. 124904
Masatoshi Kotera, Kei Yagura, Hiroyuki Tanaka, Daichi Kawano, Takeshi Maekawa. Extreme ultraviolet lithography simulation by tracing photoelectron trajectories in resist. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2008. 47. 6. 4944-4949
Zulfakri bin Mohamad, Masumi Shirai, Hayato Sone, Sumio Hosaka, Masatoshi Kodera. Formation of dot arrays with a pitch of 20 nm x 20 nm for patterned media using 30 keV EB drawing on thin calixarene resist. NANOTECHNOLOGY. 2008. 19. 2. 025301
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書籍 (1件):
各種分析法におけるサンプリング・試料調製法と前処理技術
技術情報協会 1993
Works (8件):
低加速電子ビーム露光の大電流化技術
2003 - 2004
電子ビームリソグラフィシミュレーションの開発
2003 - 2004
EB投影露光シミュレーション技術
2000 - 2003
電子ビーム照射による帯電現象のシミュレーション
2002 -
等倍EB近接露光シミュレーション技術
2002 -
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学歴 (4件):
- 1982 大阪府立大学 工学研究科 電子工学
- 1982 大阪府立大学
- 1977 大阪府立大学 工学部 電子工学
- 1977 大阪府立大学
学位 (2件):
工学博士 (大阪府立大学)
工学修士
委員歴 (4件):
2011/09 - 現在 荷電粒子ビームの工業への応用第132委員会 幹事
2008/02 - 現在 荷電粒子ビームの工業への応用第132委員会 学界委員
1998 - 2002 応用物理学会 関西支部評議員
International Microprocesses and Nanotechnology Conference 論文委員
所属学会 (3件):
日本顕微鏡学会
, 電子情報通信学会
, 応用物理学会
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