研究者
J-GLOBAL ID:200901085589761514
更新日: 2020年06月07日
浅見 廣樹
Asami Hiroki
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所属機関・部署:
苫小牧工業高等専門学校 創造工学科 機械系
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職名:
准教授
研究分野 (1件):
薄膜、表面界面物性
研究キーワード (3件):
放電プラズマ焼結
, メカニカルアロイング
, 硬質セラミックス
競争的資金等の研究課題 (1件):
硬質薄膜材料、遷移金属セラミックス
論文 (13件):
浅見 廣樹. 放電プラズマ焼結法によるCr-Mg-N-O焼結体の作製. 日本金属学会誌第79号 pp.215~219. 2015
浅見 廣樹. パルスレーザー堆積法による傾斜組成Cr-A1-N-O薄膜の作製. 日本金属学会誌第76号 pp.391~396. 2012
浅見 廣樹. Preparation of Cr(N,0) thin films by RF reactive unbalanced magnetron sputtering. Thin Solid Films, 519[11] (2011) pp.3497-3500. 2011
Jun Shirahata, Tetsutaro Ohori, Hiroki Asami, Tsuneo Suzuki, Tadachika Nakayama, Hisayuki Suematsu, Koichi Niihara. Fourier-Transform Infrared Absorption Spectroscopy of Chromium Nitride Thin Film. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2011. 50. 1
浅見 廣樹. Si添加による立方晶窒化ホウ素薄膜の密着性向上と厚膜化. 日本金属学会誌、74 (2010) pp. 36-41. 2010
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講演・口頭発表等 (2件):
MA-SPSプロセスによるTi-Al-N焼結体材料の作製
(2017)
窒化チタンクロム系硬質セラミックス材料開発に関する研究
(日本金属学会2017年秋季講演大会 2017)
学位 (1件):
博士(工学) (長岡技術科学大学大学院)
所属学会 (3件):
日本機械学会
, 日本金属学会
, 日本セラミックス協会
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