研究者
J-GLOBAL ID：201601002222058488   更新日: 2024年10月21日

黒澤 昌志

クロサワ マサシ | Kurosawa Masashi
所属機関・部署：
名古屋大学 大学院工学研究科 物質科学専攻 物質デバイス機能創成学

名古屋大学 大学院工学研究科 物質科学専攻 物質デバイス機能創成学 について


職名： 准教授
研究分野 (2件)： 結晶工学 ,  電気電子材料工学
競争的資金等の研究課題 (39件)：
  • 2024 - 2029 14族混晶半導体におけるフォノンドラッグエンジニアリング
  • 2024 - 2029 Beyond 2nm及び短TAT半導体製造に向けた技術開発(技術研究組合最先端半導体技術センター(LSTC)の組合員として参画)
  • 2024 - 2027 14族ナノシートに関する総括的研究
  • 2024 - 2027 14族ナノシートの合成
  • 2024 - 2027 14族ナノシート科学の創成(領域代表)
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論文 (143件)：
  • S. Shibayama, S. Mori, Y. Kato, M. Sakashita, M. Kurosawa, O. Nakatsuka. Comprehensive study on epitaxial growth of GeSn(111) layers with high Sn content on Si(111) featuring Ge buffer layer. ECS Transactions. 2024. Vol. 114, No. 2, pp. 215-224
  • H. Ishizaki, R. Yokogawa, Y. Ito, M. Kurosawa, A. Ogura. Evaluation of Band Structure of Single Crystalline Si-rich SiSn Thin Film. ECS Transactions. 2024. Vol. 114, No. 2, pp. 225-232
  • Ryota Takagaki, Chiaya Yamamoto, Junji Yamanaka, Keisuke Arimoto, Masashi Kurosawa, Kosuke O. Hara. Synthesis and characterization of CaSi2 films for hydrogenated 2D Si nanosheets. Journal of Vacuum Science and Technology A. 2024. Vol. 42, Issue 5, pp. 053404-1〜7
  • T. Hiraide, S. Shibayama, M. Kurosawa, M. Sakashita, O. Nakatsuka. Tensile-strained Ge1-xSnx layers on Si(001) substrate by solid phase epitaxy featuring seed layer introduction. Japanese Journal of Applied Physics. 2024. Vol. 63, No. 4, pp.045505-1〜7
  • S. Koike, R. Yanagisawa, L. Jalaber, R. Anufriev, M. Kurosawa, T. Mori, M. Nomura. Planar-type SiGe thermoelectric generator with double cavity structure. Applied Physics Letters. 2024. Vol. 124, Issue 12, pp. 123902-1〜6
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特許 (4件)：
  • 半導体薄膜の形成方法
  • 半導体結晶の製造方法、半導体結晶および半導体デバイス
  • 半導体薄膜の形成方法
  • 半導体結晶,その製造方法,及び多層膜構造体
書籍 (1件)：
  • 共晶系で生じる析出現象を応用したIV族系ナノシート形成技術
    「ポストグラフェン材料の創製と用途開発最前線」-二次元ナノシートの物性評価、構造解析、合成、成膜プロセス技術、応用展開-(柚原淳司 監修), エヌ・ティー・エス 2020 ISBN:9784860436575
講演・口頭発表等 (527件)：
  • Segregation induced GeSn nanosheet formation through Al and Ge1-xSnx epitaxial layers
    (15th International Workshop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics)
  • Formation of methylated germanane multilayers from CaGe2 epitaxial layers on Ge(111)
    (15th International Workshop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics)
  • New interests of Ge1-x-ySixSny/Ge1-xSnx heterostructures for electronic device applications
    (15th International Workshop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics)
  • Explorer and Development of Very-High-Sn-Content Ge1-xSnx Epitaxy for Electronic and Optoelectronic Applications
    (15th International Workshop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics)
  • Giant thermoelectric power observed in group-IV-based films with high carrier concentrations at low temperatures
    (15th International Workshop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics)
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Works (7件)：
  • 学術変革領域研究(A)2.5次元物質科学:公募班メンバー特別対談7がニュースレター(第21号)に掲載されました。
    ライター, 柏田百代 2023 - 2023
  • 応用物理学会秋季学術講演会 注目講演プレスレスリリース「先端ロジック半導体の性能向上を握る層状物質の探索 シリカン(SiH)の成膜法開発で新たな一歩を記す」
    2023 - 2023
  • 月刊誌 Yano E plusでIV族元素による新奇二次元物質に関する研究成果が紹介されました。
    株式会社矢野経済研究所 2023 - 2023
  • アプリケーションノート:周波数領域サーモリフレクタンス法を用いたアモルファス Ge1-xSnx 薄膜の熱伝導率の測定
    サイエンスエッジ株式会社 2023 - 2023
  • PRESS RELEASE: Large, Good-quality, Monatomic Sheets of Germanene Grown Simply Using Annealing - A Step Closer to the Future of Electronics?
    2018 - 2018
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学歴 (4件)：
  • - 2012 九州大学 システム情報科学府 電気電子工学専攻
  • - 2009 九州大学 システム情報科学府 電子デバイス工学専攻
  • - 2007 九州大学 工学部 電気情報工学科
  • - 2005 茨城工業高等専門学校 電気工学科
経歴 (12件)：
  • 2022/06 - 現在 名古屋大学 大学院工学研究科 物質科学専攻 准教授
  • 2017/04 - 2022/05 名古屋大学 大学院工学研究科 物質科学専攻 講師
  • 2017/01 - 2020/03 名古屋大学 高等研究院 講師
  • 2015/12 - 2019/03 科学技術振興機構(JST) 戦略的創造研究推進事業 さきがけ研究者
  • 2017/01 - 2017/03 名古屋大学 大学院工学研究科 結晶材料工学専攻 講師
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委員歴 (14件)：
  • 2023/04 - 現在 応用物理学会 半導体の結晶成長と加工および評価に関する産学連携委員会 広報幹事
  • 2023/01 - 現在 応用物理学会 東海地区若手チャプター 代表
  • 2022/06 - 現在 応用物理学会東海支部 東海ニューフロンティアリサーチワークショップ 代表
  • 2018 - 現在 応用物理学会フォノンエンジニアリング研究会 実行委員
  • 2018 - 現在 応用物理学会東海地区若手チャプター コアメンバー
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受賞 (12件)：
  • 2022/03 - ISPlasma2022/IC-PLANTS2022 ISPlasma2022/IC-PLANTS2022 The Best Oral Presentation Awards
  • 2018/11 - MNC Organizing Committee MNC2017 Award for Outstanding Paper
  • 2016/09 - 応用物理学会シリコンテクノロジー分科会 第38回応用物理学会優秀論文賞
  • 2015/09 - SSDM SSDM Paper Award 2015
  • 2015/06 - 15th International Workshop on Junction Technology 2015 (IWJT 2015) Best Paper Award of IWJT 2015
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所属学会 (5件)：
日本セラミックス協会 ,  日本熱電学会 ,  日本表面真空学会 ,  応用物理学会 ,  電子情報通信学会
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