ENGLISH 使い方
文献、特許、研究者などの科学技術情報サイト
研究者
J-GLOBAL ID:201901012399947190   更新日: 2025年02月13日

王 冬

DONG WANG
所属機関・部署:
職名: 准教授
研究分野 (3件): 薄膜、表面界面物性 ,  電子デバイス、電子機器 ,  電気電子材料工学
研究キーワード (10件): ボーダートラップ ,  界面準位 ,  深い準位過渡分光(DLTS) ,  電界発光(EL) ,  フォトルミネッセンス(PL) ,  Ge On Insulator ,  局所歪み ,  金属/半導体コンタクト ,  Ge-MOSFET ,  Ge-光素子
競争的資金等の研究課題 (6件):
  • 2017 - 2020 Ge-On-Insulator基板上への局所歪み導入によるGe-光素子の高性能化
  • 2014 - 2017 Ge-CMOSと混載可能な高性能Ge-光素子実現のための基盤技術開発
  • 2013 - 2016 メタル・ソース/ドレイン型Ge-CMOS実現のための基盤技術開発
  • 2011 - 2013 Ge結晶への局所歪み技術の開発とトランジ スタ応用
  • 2009 - 2011 高性能バイポーラトランジスタのための高精度・局所歪み評価
全件表示
論文 (129件):
  • Taisei Aso, Hajime Kuwazuru, Dong Wang, Keisuke Yamamoto. Al2O3 growth on Ge by low-temperature (∼90 °C) atomic layer deposition and its application for MOS devices. Materials Science in Semiconductor Processing. 2025. 190. 109372-109372
  • Wei-Chen Wen, Dong Wang, Hiroshi Nakashima, Keisuke Yamamoto. Fabrication and Characterization of Germanium n-MOS and n-MOSFET with Thermally Oxidized Yttrium Gate Insulator: Formation of underlying Germanium Oxide and Its Electrical Characteristics. Materials Science in Semiconductor Processing. 2023. 162. 1. 107504
  • Keisuke Yamamoto, Dong Wang, Hiroshi Nakashima, Shigeomi Hishiki, Hiroki Uratani, Yoshiki Sakaida, Keisuke Kawamura. High channel mobility of 3C-SiC n-MOSFETs with gate stacks formed at low temperature-the importance of Coulomb scattering suppression. Applied Physics Express. 2022. 15. 7. 071008-071008
  • Keisuke Yamamoto, Dong Wang, Hiroshi Nakashima. (Invited) Fabrication of Ge-on-Insulator By Epitaxial Growth and Ion-Implanted Exfoliation for Electronics and Optoelectronics Applications. ECS Transactions. 2021. 104. 4. 157-166
  • Keisuke Yamamoto, Dong Wang, Hiroshi Nakashima. (Invited) Schottky Barrier Height Control at Metal/Ge Interface by Insertion of Nitrogen Contained Amorphous Layer. ECS Transactions. 2021. 102. 4. 63-71
もっと見る
MISC (5件):
講演・口頭発表等 (24件):
  • Enhancement of direct band gap electroluminescence in asymmetric metal/Ge/metal diodes
    (TACT 2019 International Thin Film Conference 2019)
  • Direct band gap electroluminescence and photo detection in asymmetric metal/Ge/metal diodes
    (Collaborative Conference on Materials Research (CCMR) 2018 2018)
  • Towards an energy-saving society - the shrinking transistors
    (CAMPUS Asia EEST 2nd stage Kick-off Symposium 2017)
  • Direct band gap light emission and detection at room temperature in bulk Ge diodes
    (The 2nd Joint Symposium of Kyushu University and Yonsei University 2016)
  • Direct band gap light emission and detection in lateral HfGe/Ge/TiN diodes
    (The American Vacuum Society (AVS) 2015 Shanghai Thin Film (TF) Conference 2015)
もっと見る
学歴 (2件):
  • 1995 - 2000 吉林大学 物理学院 光学科
  • 1991 - 1995 吉林大学 物理学部 光学科
経歴 (8件):
  • 2012/02 - 現在 九州大学 総合理工学研究院 准教授
  • 2008/04 - 2012/01 九州大学 産学連携センター 特任准教授
  • 2006/04 - 2008/03 日本学術振興会 外国人特別研究員
  • 2004/04 - 2006/03 九州大学 産学連携センター 学術研究員
  • 2002/04 - 2004/03 福岡県産業・科学技術振興財団 研究員
全件表示
所属学会 (1件):
応用物理学会
※ J-GLOBALの研究者情報は、researchmapの登録情報に基づき表示しています。 登録・更新については、こちらをご覧ください。

前のページに戻る