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研究者
J-GLOBAL ID:202001013117524710   更新日: 2025年02月05日

伊藤 智子

イトウ トモコ | Tomoko Ito
クリップ
所属機関・部署:
ホームページURL (1件): http://www.camt.eng.osaka-u.ac.jp/hamaguchi/
研究分野 (1件): プラズマ応用科学
研究キーワード (3件): プラズマ固体表面反応 ,  プラズマ微細加工プロセス ,  原子層エッチング
競争的資金等の研究課題 (7件):
  • 2021 - 2024 ビーム実験による次世代半導体Ga2O3のプラズマエッチング表面反応機構の解明
  • 2022 - 2023 in-situ表面反応解析装置を用いた磁性材料に対するサーマル原子層エッチング表面反応機構の解明
  • 2021 - 2022 超音速分子ビームを用いた遷移金属におけるアトミックレイヤーエッチング表面反応機構の解明
  • 2018 - 2021 反応性プラズマを用いた原子層エッチング開発のためのイオン-固体表面反応機構の解明
  • 2017 - 2018 反応性プラズマを用いた原子層エッチング(ALE:Atomic Layer Etching)プロセス開発のためのプラズマ表面反応機構の解明
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論文 (26件):
  • Anjar Anggraini Harumningtyas, Tomoko Ito, Hidekazu Kita, Joe Kodama, Takashi Kaito, Satoshi Hamaguchi. Amine plasma polymers deposited on porous hydroxyapatite artificial bone with bipolar pulsed discharges. Journal of Vacuum Science & Technology A. 2024. 42. 5
  • Anjar Anggraini Harumningtyas, Tomoko Ito, Michiro Isobe, Lenka Zajíčková, Satoshi Hamaguchi. Molecular dynamics simulation of amine formation in plasma-enhanced chemical vapor deposition with hydrocarbon and amino radicals. Journal of Vacuum Science & Technology A. 2023. 41. 6
  • Anjar Anggraini Harumningtyas, Tomoko Ito, Masato Ikuta, Takashi Kaito, Satoshi Hamaguchi. Polyetheretherketone (PEEK) Implant Functionalization with Magnetron-Sputtered SrTiO3 for Regenerative Medicine. Plasma Medicine. 2023. 13. 3. 53-67
  • Karsten Arts, Satoshi Hamaguchi, Tomoko Ito, Kazuhiro Karahashi, Harm C M Knoops, Adriaan J M Mackus, Wilhelmus M M, Kessels. Foundations of atomic-level plasma processing in nanoelectronics. 2022. 31. 10. 103002-103002
  • Tomoko Ito, Hidekazu Kita, Kazuhiro Karahashi, Satoshi Hamaguchi. Low-energy ion irradiation effects on chlorine desorption in plasma-enhanced atomic layer deposition (PEALD) for silicon nitride. Japanese Journal of Applied Physics. 2022. 61. SI. SI1011-SI1011
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MISC (5件):
  • 唐橋 一浩, 伊藤 智子, 浜口 智志. エッチング表面反応の実験的理論的アプローチ. 応用物理学会誌「応用物理」. 2022. 91. 3
  • 伊藤智子, 唐橋一浩, 浜口智志. 難エッチング材料に対する原子層エッチング反応解析. プラズマ・核融合学会誌. 2021. 97. 9. 522-527
  • 唐橋 一浩, 伊藤 智子, 浜口 智志. ビーム実験による原子スケールプロセスにおける表面反応解析-シリコン材料・デバイス. 電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報. 2019. 119. 273. 11-16
  • 小玉城, 杉本敏司, 伊藤智子, ANJAR Anggraini Harumningtyas, 吉川秀樹, 浜口智志, 海渡貴司. プラズマ技術を用いた骨分化促進能を有する人工骨の開発. 日本整形外科学会雑誌. 2019. 93. 8
  • 伊藤智子, 浜口智志. 技術解説 低温大気圧プラズマによる滅菌技術. 機関紙「空気清浄」. 2014. 52. 4. 295-304
特許 (2件):
  • Artificial bone and manufacturing method of artificial bone
  • 放射性プルーム監視システムおよび放射性物質検出装置
講演・口頭発表等 (70件):
  • Surface analyses of β-diketone-adsorbed transition metal materials in atomic layer etching (ALE) processes
    (14th EU-Japan Joint Symposium on Plasma Processing (JSPP-14) 2023)
  • Surface reactions of Si and SiO 2 exposed t o energetic tungsten fluoride ion beams
    (14th EU-Japan Joint Symposium on Plasma Processing (JSPP-14) 2023)
  • Thermal and Plasma-enhanced Atomic Layer Deposition of Strontium Oxide on Artificial Spinal Cage
    (14th EU-Japan Joint Symposium on Plasma Processing (JSPP-14) 2023)
  • フッ化タングステンイオンによるSiおよびSiO2エッチング反応の評価
    (第70回応用物理学会春季学術講演会 2023)
  • SiO2 etching reactions by high-energy WFx+ (X= 1-4) ion injection
    (DPS2022 43rd International Symposium on Dry Process 2022)
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学歴 (3件):
  • 2010 - 2013 大阪大学 大学院工学研究科 マテリアル生産科学専攻生産科学コース 博士後期課程
  • 2008 - 2010 大阪大学大学院 工学研究科 マテリアル生産科学専攻生産科学コース博士前期課程
  • 2004 - 2008 奈良女子大学 理学部 物理科学科(その他)
経歴 (7件):
  • 2025/01 - 現在 大阪大学 経営企画オフィス 特任助教
  • 2024/10 - 現在 大坂大学 工学研究科マテリアル生産科学専攻生産科学コース 特任助教
  • 2023/04 - 2024/03 大坂大学大学院 工学研究科マテリアル生産科学専攻生産科学コース 助教
  • 2023/04 - 2024/03 マテリアル生産科学専攻 生産科学コース 助教
  • 2020/04 - 2023/03 大阪大学 工学研究科 附属アトミックデザイン研究センター 助教
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委員歴 (2件):
  • 2023/04 - 現在 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会幹事
  • 2022/04 - 現在 42nd International Symposium on Dry Process Exective Committee
受賞 (3件):
  • 2014/05 - 日本質量分析学会 第62 回質量分析総合討論会ベストプレゼンテーション賞優秀賞
  • 2012/09 - 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会 第11回プラズマエレクトロニクス賞
  • 2010/11 - 第32回ドライプロセス国際シンポジウム組織委員会 Young Researcher Award (The 32nd International Symposium on Dry Process)
所属学会 (3件):
American Vacuum Society ,  プラズマエレクトロニクス分科会(応用物理学会 ) ,  応用物理学会
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