研究者
J-GLOBAL ID:202001017597308902   更新日: 2024年10月16日

廣木 彰

Hiroki Akira
所属機関・部署:
研究分野 (1件): 電子デバイス、電子機器
研究キーワード (1件): 半導体デバイス
競争的資金等の研究課題 (1件):
  • 2003 - 2005 超広帯域光配線を用いた光・電子融合回路に関する基礎研究
論文 (57件):
  • Ryo Takanishi, Akira Hiroki. Investigation of Threshold Voltage Definition for Nanosheet MOSFETs by Using Quantum Drift Diffusion Model. IEEJ Transactions on Electronics, Information and Systems. 2024. 144. 2. 82-87
  • Haruki Goto, Akira Hiroki. Analysis of In<sub>0.53</sub>Ga<sub>0.47</sub>As n-MOSFET Characteristics using Quantum Drift Diffusion Model. IEEJ Transactions on Electronics, Information and Systems. 2023. 143. 2. 159-164
  • Masashi Matsuda, Akira Hiroki. Analysis of Quantum Confinement in Nanosheet FETs by Using a Quantum Drift Diffusion Model. IEEJ Transactions on Electronics, Information and Systems. 2022. 142. 11. 1174-1179
  • Daiki Ito, Akira Hiroki. Examination of Quantum Potential Coefficient in Quantum Drift Diffusion Model. IEEJ Transactions on Electronics, Information and Systems. 2020. 140. 11. 1176-1181
  • Yuki Tamiya, Akira Hiroki. Mobility Model Parameters of Strained Si by Using a Quantum Drift Diffusion Model. IEEJ Transactions on Electronics, Information and Systems. 2020. 140. 11. 1171-1175
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講演・口頭発表等 (24件):
  • ナノシート構造MOSFETに対応した量子井戸における電子の染み出しの評価解析
    (令和5年電気関係学会関西連合大会 2023)
  • 量子ドリフト拡散モデルを用いたナノシートMOSFETの膜厚設計指針の提案
    (令和5年電気関係学会関西連合大会 2023)
  • ナノシート構造MOSFETにおける電子濃度と静電ポテンシャルに対する量子閉じ込め効果の解析
    (令和5年電気関係学会関西連合大会 2023)
  • Gate Voltage Dependence of Quantum Electron Density Distribution for Nanosheet FETs
    (The 2022 International Meeting for Future of Electron Devices, Kansai 2022)
  • 量子ドリフト拡散モデルによるInGaAsチャネルナノシート構造の電子密度分布解析
    (令和4年電気関係学会関西連合大会 2022)
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所属学会 (5件):
一般社団法人 日本音響学会 ,  一般社団法人 電気学会 ,  公益社団法人 応用物理学会 ,  Institute of Electrical and Electronics Engineers ,  一般社団法人 電子情報通信学会
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