ENGLISH 使い方
文献、特許、研究者などの科学技術情報サイト

共著の研究者

共同発明の研究者

この研究者の研究内容に近い研究者

この研究者の研究内容に近い文献

この研究者の研究内容に近い特許

この研究者の研究内容に近い研究課題

この研究者が著者と推定される文献

この研究者が発明者と推定される特許

研究者
J-GLOBAL ID:202301005105624034   更新日: 2025年02月15日

藤原 弘和

Fujiwara Hirokazu
クリップ
所属機関・部署:
職名: 特任助教
研究分野 (3件): 薄膜、表面界面物性 ,  応用物性 ,  磁性、超伝導、強相関系
研究キーワード (9件): 半導体プロセス ,  ハーフメタル強磁性体 ,  酸化物 ,  強誘電体 ,  電子デバイス ,  オペランド ,  半導体 ,  光電子顕微鏡 ,  光電子分光
競争的資金等の研究課題 (6件):
  • 2024 - 2025 電子デバイス向けレジストの瞬間潜像イメージング
  • 2023 - 2025 非破壊オペランドナノイメージングで可視化する酸化物デバイスの特性変動過程
  • 2023 - 2024 レーザー・電気計測・光電子顕微鏡を融合させた電子デバイスの自動非破壊不良検査システムの構築
  • 2023 - 2024 オペランドレーザー励起光電子顕微鏡を用いた薄膜強誘電体HfO2に関する研究
  • 2016 - 2019 超伝導体/ハーフメタル界面を用いたマヨラナフェルミオンの探索
全件表示
論文 (23件):
  • Hirokazu Fujiwara, Cédric Bareille, Mario Okawa, Shik Shin, Toshiyuki Taniuchi. High throughput observation of latent images on resist using laser-based photoemission electron microscopy. Applied Physics Express. 2024. 17. 8. 086505-086505
  • Yuki Itoya, Hirokazu Fujiwara, Cédric Bareille, Shik Shin, Toshiyuki Taniuchi, Masaharu Kobayashi. Dielectric breakdown behavior of ferroelectric HfO2 capacitors by constant voltage stress studied by in situ laser-based photoemission electron microscopy. Japanese Journal of Applied Physics. 2024
  • Hirokazu Fujiwara, Yuki Itoya, Masaharu Kobayashi, Cédric Bareille, Shik Shin, Toshiyuki Taniuchi. Nondestructive imaging of breakdown process in ferroelectric capacitors using in situ laser-based photoemission electron microscopy. Applied Physics Letters. 2023. 123. 17. 173501
  • Hirokazu Fujiwara, Kensei Terashima, Junya Otsuki, Nayuta Takemori, Harald O. Jeschke, Takanori Wakita, Yuko Yano, Wataru Hosoda, Noriyuki Kataoka, Atsushi Teruya, et al. Anomalously large spin-dependent electron correlation in the nearly half-metallic ferromagnet CoS2. Physical Review B. 2022
  • Yuta Sato, Hirokazu Fujiwara, Nobuyoshi Saito, Tomomasa Ueda, Keiji Ikeda. Source/Drain Contact Engineering of InGaZnO Channel BEOL Transistor for Low Contact Resistance and Suppressing Channel Shortening Effect. 2021 20th International Workshop on Junction Technology (IWJT). 2021
もっと見る
MISC (1件):
  • 横谷尚睦, 片岡範行, 脇田高徳, 藤原弘和, 福島優斗, 川口海周, 田中宏明, 森亮, 原沢あゆみ, 近藤孟, et al. ハーフメタルLa0.7Sr0.3MnO3の高分解能スピン分解光電子分光. 日本物理学会講演概要集(CD-ROM). 2023. 78. 1
講演・口頭発表等 (11件):
  • Nondestructive imaging of CMOS process compatible HfO2-based ferroelectric devices: Laser-based PEEM
    (15th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices '24 (ALC'24))
  • レーザー励起光電子顕微鏡による電子線レジストの高速潜像イメージング
    (第85回 応用物理学会 秋季学術講演会 2024)
  • Laser-Based Photoemission Electron Microscopy as a Nondestructive Imaging Tool for Ferroelectric Devices
    (2024 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM2024) 2024)
  • Ferroelectric polarization contrast observed through the top electrode of InZnOx/Hf0.5Zr0.5O2/TiN capacitors
    (LEEM-PEEM13 2024)
  • In situ nondestructive spectromicroscopic analysis of dielectric breakdown in HfO2-based ferroelectric capacitors by laser-based photoemission electron microscope
    (The 66th Electronic Materials Conference (EMC) 2024)
もっと見る
学歴 (3件):
  • 2016 - 2019 岡山大学 大学院自然科学研究科 数理物理科学専攻 博士後期課程
  • 2014 - 2016 岡山大学 大学院自然科学研究科 数理物理科学専攻 博士前期課程
  • 2010 - 2014 岡山大学 理学部 物理学科
経歴 (5件):
  • 2024/01 - 現在 東京大学 大学院新領域創成科学研究科 特任助教
  • 2021/04 - 2023/12 東京大学 物性研究所 特任研究員
  • 2019/10 - 2021/03 キオクシア株式会社 メモリ技術研究所 デバイス技術研究開発センター
  • 2019/04 - 2019/09 東芝メモリ株式会社 メモリ技術研究所 デバイス技術研究開発センター
  • 2016/04 - 2019/03 日本学術振興会特別研究員
受賞 (6件):
  • 2020/10 - 応用物理学会 第49回(2020年秋季)応用物理学会講演奨励賞 BEOLプロセス互換酸化物半導体In-Al-Zn-Oを用いたゲート長40 nmのSurrounding Gate 縦型FETの動作実証
  • 2019/03 - 岡山大学 平成30年度岡山大学大学院自然科学研究科長賞
  • 2019/03 - 仁科顕彰会 仁科賞
  • 2018/10 - 日本物理学会 第1回日本物理学会学生優秀発表賞 高分解能スピン分解ARPESによるCoS2の電子構造の解明
  • 2016/11 - 応用物理学会 第21回応用物理学会中国四国支部学術講演会発表奨励賞 CrO2 の本質的なハーフメタル電子状態:バルク敏感スピン分解光電子分光
全件表示
所属学会 (2件):
応用物理学会 ,  日本物理学会
※ J-GLOBALの研究者情報は、researchmapの登録情報に基づき表示しています。 登録・更新については、こちらをご覧ください。

前のページに戻る