研究者
J-GLOBAL ID:200901058668694507   更新日: 2024年09月28日

川合 健太郎

カワイ ケンタロウ | Kawai Kentaro
所属機関・部署:
職名: 室長
研究分野 (4件): ナノマイクロシステム ,  流体工学 ,  電子デバイス、電子機器 ,  ナノ材料科学
研究キーワード (6件): MEMS ,  二次元結晶 ,  NEMS ,  ナノポアセンサ ,  マイクロ流体システム ,  Lab-on-a-chip
競争的資金等の研究課題 (7件):
  • 2019 - 2022 マイクロナノ融合プロセスによる光電気複合型ナノポアセンサデバイスの基盤技術構築
  • 2019 - 2022 二硫化モリブデンによる二次元単結晶半導体極薄膜ナノポアセンシング
  • 2017 - 2019 ナノ分子メカニクスを用いたバイオハイブリッドグラフェンナノポアセンシング
  • 2016 - 2019 MEMSとDNA融合プロセスによる光電気複合型ナノポアセンサデバイスの基盤構築
  • 2014 - 2017 求電子型フッ素化剤光反応による機能デバイス半導体表面の三次元形状創成加工
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論文 (149件):
  • Yuki Miyata, Yasunori Nakamukai, Cassia Tiemi Azevedo, Ayano Tsuchida, Miho Morita, Yasushi Oshikane, Junichi Uchikoshi, Kentaro Kawai, Kenta Arima, Mizuho Morita. Electroluminescence in metal-oxide-semiconductor tunnel diodes with a crystalline silicon/silicon dioxide quantum well. Micro and Nanostructures. 2022. 166. 207228-207228
  • Nian Liu, Kentaro Sugimoto, Naoya Yoshitaka, Hideaki Yamada, Rongyan Sun, Kentaro Kawai, Kenta Arima, Kazuya Yamamura. Effects of polishing pressure and sliding speed on the material removal mechanism of single crystal diamond in plasma-assisted polishing. Diamond and Related Materials. 2022. 124. 108899-108899
  • Ayumi Ogasawara, Kentaro Kawai, Kazuya Yamamura, Kenta Arima. Nanocarbon-Induced Etching Property of Semiconductor Surfaces: Testing Nanocarbon’s Catalytic Activity for Oxygen Reduction Reaction at a Single-Sheet Level. ECS Journal of Solid State Science and Technology. 2022. 11. 4. 041001-041001
  • Zhida Ma, Seiya Masumoto, Kentaro Kawai, Kazuya Yamamura, Kenta Arima. Separation of Neighboring Terraces on a Flattened Si(111) Surface by Selective Etching along Step Edges Using Total Wet Chemical Processing. Langmuir. 2022. 38. 12. 3748-3754
  • Xiaozhe Yang, Xu Yang, Haiyang Gu, Kentaro Kawai, Kenta Arima, Kazuya Yamamura. Charge Utilization Efficiency and Side Reactions in the Electrochemical Mechanical Polishing of 4H-SiC (0001). Journal of The Electrochemical Society. 2022. 169. 2. 023501-023501
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MISC (102件):
  • 陶通, 孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也. プラズマ援用研磨法の開発(第25報)-RS-SiC材のSiC成分とSi成分の酸化レートの評価-. 精密工学会大会学術講演会講演論文集. 2022. 2022
  • 孫栄硯, 陶通, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也. プラズマ援用研磨法の開発(第24報)-CF4プラズマ照射前後におけるAlN基板とダイヤモンド砥粒との吸着力の変化-. 精密工学会大会学術講演会講演論文集. 2022. 2022
  • 杉本健太郎, 孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也. プラズマ援用研磨による多結晶ダイヤモンド基板の高能率ダメージフリー 平坦・平滑化に関する研究(第1報). 砥粒加工学会学術講演会講演論文集(CD-ROM). 2022. 2022
  • 東知樹, 孫栄硯, 川合健太郎, 山村和也, 有馬健太. Si表面の溝底部に埋め込んだ金属原子からの光電子検出~光電子検出量の脱出角依存性の検討~. 精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集. 2022. 2022
  • 杉本健太郎, 劉念, 吉鷹直也, 孫栄硯, 川合健太郎, 有馬健太, 山村和也. プラズマ援用研磨による単結晶ダイヤモンド基板の高能率ダメージフリー加工-研磨レートおよび表面性状の研磨圧力依存性および摺動速度依存性に関する検討-. 精密工学会関西地方定期学術講演会講演論文集. 2022. 2022
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特許 (7件):
書籍 (4件):
  • 超精密加工と表面科学
    大阪大学出版会 2014 ISBN:9784872594652
  • Topics in Current Chemistry 304, Flow Control Methods and Devices in Micrometer Scale Channels
    Springer 2011
  • BIO INDUSTRY 第27巻、No. 3、大規模集積流体システム
    CMC出版 2010
  • 細胞分離・操作技術の最前線
    CMC出版 2008
学歴 (3件):
  • 2007 - 2010 早稲田大学 先進理工学研究科 ナノ理工学専攻
  • 2005 - 2007 早稲田大学 理工学研究科 ナノ理工学専攻
  • - 2005 早稲田大学 理工学部 電子・情報通信学科
学位 (1件):
  • 博士(工学) (早稲田大学)
経歴 (4件):
  • 2022/07 - 現在 大阪大学 アルバック未来技術協働研究所 室長
  • 2020/04 - 2022/06 大阪大学 大学院工学研究科 物理学系専攻 助教
  • 2010/10 - 2020/03 大阪大学 大学院工学研究科 精密科学・応用物理学専攻 助教
  • 2008/04 - 2010/09 早稲田大学 理工学術院 助手
委員歴 (2件):
  • 2007 - 2007 電気学会 将来を担う人材育成の強化のための学生会員WG
  • 精密工学会 超精密加工専門委員会
受賞 (7件):
  • 2021/03 - 精密工学会 2021年度精密工学会春季大会学術講演会 ベストプレゼンテーション賞 DNA シーケンシングデバイスのためのマイクロ流路を用いたナノピラー/横型ナノポア集積化プロセスの開発
  • 2019/04 - IEEE NEMS IEEE NEMS 2019 Finalist of Best Conference Paper Award DNA origami assembly in gradient tempareture microfluidic channel
  • 2019/04 - IEEE-NEMS IEEE-NEMS 2019 Finalist of CM Ho Best Paper Award in Micro/Nano-Fluidics DNA origami assembly in gradient tempareture microfluidic channel
  • 2018/04 - IEEE-NEMS IEEE-NEMS 2018 Finalist of CM Ho Best Paper Award in Micro/Nano-Fluidics Nanopore Fabrication and DNA sensing on Two-Dimensional Materials using Helium Ion Microscopy
  • 2018 - 精密工学会度関西支部 精密工学会2018年度関西地方定期学術講演会 ベストポスタープレゼンテーション賞 マイクロ流路を用いたDNAオリガミ作製の高速化
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所属学会 (4件):
精密工学会 ,  電気学会 ,  機械学会 ,  IEEE
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