研究者
J-GLOBAL ID:200901061495752779   更新日: 2022年08月31日

大石 正和

オオイシ マサカズ | Ohishi Masakazu
所属機関・部署:
職名: 教授
研究分野 (2件): 結晶工学 ,  応用物性
研究キーワード (2件): エピタキシャル成長 ,  epitaxial growth / II-VI compounds / quantum dots
競争的資金等の研究課題 (10件):
  • 2000 - 2002 II-VI族化合物量子ドットの成長過程と基礎物性の研究
  • 1995 - 1997 高温分子線を用いた高品質硫化亜鉛薄膜の低温成長と電導性制御
  • 1995 - 1997 高飽和蒸気圧をもつII,VI族元素用分子線エピタキシ装置の開発
  • 1990 - 1992 発光相関法による短波長領域フェトム秒光パルスの時間幅測定法の開発
  • 1990 - 1991 光物性によるワイドギャップIIーVI族化合物のエピタキシャル成長の研究
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論文 (77件):
MISC (63件):
学位 (1件):
  • 理学博士 (広島大学)
所属学会 (3件):
応用物理学会 ,  The physical society of Japan (Japan) ,  The Japan Society of Applied Physics
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